| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-44页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·不同材料之间的界面结构及其对器件性能影响简介 | 第15-20页 |
| ·有机发光二极管中的界面 | 第15-18页 |
| ·有机场效应晶体管中的界面 | 第18-19页 |
| ·锂硫电池中的界面 | 第19-20页 |
| ·界面研究现状 | 第20-34页 |
| ·器件性能相关的有机材料表面形貌研究现状 | 第21-24页 |
| ·有机层和其他材料之间界面结构以及对器件性能的影响 | 第24-34页 |
| ·现阶段金属/有机界面研究的意义及我们开展的工作 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-44页 |
| 第2章 实验技术和方法 | 第44-50页 |
| ·光电子能谱 | 第44-46页 |
| ·近边X射线吸收精细结构 | 第46-47页 |
| ·有机发光二极管器件制备和表征 | 第47-48页 |
| ·化学气相沉积制备单层石墨烯 | 第48-50页 |
| 第3章 Li与P3HT界面形成过程的光电子能谱研究 | 第50-66页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·实验部分 | 第51-52页 |
| ·实验结果 | 第52-57页 |
| ·同步辐射光电子能谱(SRPES) | 第52-54页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第54-55页 |
| ·价带谱 | 第55-57页 |
| ·讨论 | 第57-61页 |
| ·界面反应 | 第57-60页 |
| ·扩散和反应深度 | 第60-61页 |
| ·总结 | 第61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 第4章 常温下Li/F8BT界面形成过程及其与基于F8BT的发光二极管的性能之间的联系——如何通过控制界面反应和扩散进行器件性能优化? | 第66-94页 |
| ·引言 | 第66-67页 |
| ·实验部分 | 第67-70页 |
| ·器件制备和表征 | 第67-68页 |
| ·原位实验中聚合物薄膜的制备 | 第68页 |
| ·光电子能谱实验 | 第68-69页 |
| ·全电子产额(TEY)近边X射线吸收精细结构 | 第69页 |
| ·计算方法 | 第69-70页 |
| ·实验结果 | 第70-82页 |
| ·表面形貌的原子力显微镜(AFM)研究 | 第70-71页 |
| ·基于F8BT的LED的电流密度随锂厚度增加的变化 | 第71页 |
| ·角分辨全电子产额近边X射线吸收精细结构 | 第71-73页 |
| ·真空紫外光电子能谱 | 第73-74页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第74-75页 |
| ·理论计算模拟的化学反应过程及相应的N 1s谱图变化 | 第75-78页 |
| ·理论计算模拟F8BT分子结构以及对应的X射线吸收峰 | 第78-81页 |
| ·原位全电子产额X射线吸收精细结构 | 第81-82页 |
| ·讨论 | 第82-88页 |
| ·能带弯曲现象以及近表面元素浓度分析 | 第82-84页 |
| ·Li/F8BT界面偶极的变化和可能的界面模型 | 第84-86页 |
| ·Li/F8BT的界面能级排布以及相应的器件性能 | 第86-87页 |
| ·反应产物的扩散以及引入的界面偶极的大小 | 第87-88页 |
| ·结论 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-94页 |
| 第5章 低温下的金属/聚合物界面形成过程：Li/F8BT的界面反应扩散和电子结构变化 | 第94-110页 |
| ·引言 | 第94-95页 |
| ·实验部分 | 第95-96页 |
| ·聚合物膜的制备 | 第95页 |
| ·X射线光电子谱学研究 | 第95-96页 |
| ·实验结果 | 第96-99页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)结果 | 第96-98页 |
| ·真空紫外光电子能谱(UPS) | 第98-99页 |
| ·讨论 | 第99-105页 |
| ·Li和F8BT在90 K条件下的界面化学反应 | 第99-102页 |
| ·能带弯曲和界面局域电场 | 第102-103页 |
| ·价带结构 | 第103-105页 |
| ·总结 | 第105页 |
| 参考文献 | 第105-110页 |
| 第6章 一种可获得高质量单层石墨烯/有机材料的新型石墨烯转移方法及所获得界面的同步辐射研究 | 第110-122页 |
| ·引言 | 第110-111页 |
| ·实验部分 | 第111-113页 |
| ·单层石墨烯的生长 | 第111页 |
| ·单层石墨烯/有机材料薄膜制备 | 第111-112页 |
| ·表征 | 第112-113页 |
| ·结果和讨论 | 第113-117页 |
| ·拉曼图像 | 第113-114页 |
| ·角分辨全电子产额近边X射线吸收精细结构(TEY-NEXAFS) | 第114-115页 |
| ·原位同步辐射X射线光电子能谱研究Al/graphene/P3HT界面 | 第115-117页 |
| ·总结 | 第117页 |
| 参考文献 | 第117-122页 |
| 第7章 了解可循环锂硫电池的降解机理：对于不同循环次数后硫-氧化石墨烯纳米材料阴极的全面研究 | 第122-140页 |
| ·引言 | 第122-123页 |
| ·实验部分 | 第123-125页 |
| ·S-GO纳米复合材料的合成和表征 | 第123页 |
| ·电极制备和电化学表征 | 第123-124页 |
| ·扫描电子显微镜观测电极结构变化 | 第124页 |
| ·全电子产额(TEY)和全荧光产额(TFY)近边X射线吸收精细结构(NEXAFS)实验 | 第124-125页 |
| ·X射线光电子谱学表征(XPS) | 第125页 |
| ·实验结果 | 第125-133页 |
| ·S-GO纳米复合材料阴极的循环性能 | 第125-126页 |
| ·S-GO阴极材料结构和形貌变化 | 第126-127页 |
| ·S-GO电极材料的近边X射线吸收精细结构表征 | 第127-132页 |
| ·S-GO纳米复合材料阴极的X射线光电子能谱表征 | 第132-133页 |
| ·讨论 | 第133-135页 |
| ·总结 | 第135页 |
| 参考文献 | 第135-140页 |
| 第8章 总结和展望 | 第140-144页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第144-146页 |
| 致谢 | 第146页 |
