| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-30页 |
| ·减反膜的发展历史及现状 | 第13-15页 |
| ·减反膜原理 | 第15-16页 |
| ·减反膜设计 | 第16-18页 |
| ·传统设计理论 | 第16-17页 |
| ·现代设计理论 | 第17-18页 |
| ·常见的减反膜体系 | 第18-24页 |
| ·各种光谱曲线类型的减反膜体系 | 第18-20页 |
| ·各种波段的减反膜体系 | 第20-22页 |
| ·各种基体材料的减反膜体系 | 第22-24页 |
| ·减反膜的制备工艺评述 | 第24-26页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第24页 |
| ·磁控溅射镀膜技术 | 第24-25页 |
| ·离子束溅射镀膜技术 | 第25页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第25-26页 |
| ·TiO_2系光学减反膜的研究现状与进展 | 第26-27页 |
| ·减反膜面临的主要问题及其研究意义 | 第27-28页 |
| ·实际与理论之间的落差 | 第27页 |
| ·光谱性能衰减 | 第27页 |
| ·耐受性下降 | 第27-28页 |
| ·角度依赖性 | 第28页 |
| ·本课题的研究内容 | 第28-30页 |
| 第2章 实验方法 | 第30-36页 |
| ·设计与模拟软件 | 第30页 |
| ·TFCalc 光学设计软件 | 第30页 |
| ·ANSYS 有限元模拟软件 | 第30页 |
| ·衬底的选择及预处理过程 | 第30-31页 |
| ·光学减反膜的制备装置 | 第31页 |
| ·光学减反膜的制备工艺 | 第31-33页 |
| ·电子束蒸发镀膜工艺（E-beam） | 第31-32页 |
| ·离子束辅助镀膜工艺（IAD） | 第32页 |
| ·斜角入射沉积蒸发镀膜（GLAD） | 第32-33页 |
| ·双源共蒸真空镀膜（Co-evaporation） | 第33页 |
| ·薄膜退火工艺 | 第33页 |
| ·减反膜的组织结构表征方法 | 第33-34页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第33-34页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第34页 |
| ·X 射线光电子能谱分析 | 第34页 |
| ·原子力显微分析 | 第34页 |
| ·减反膜的性能测试方法 | 第34-36页 |
| ·减反膜厚度的测量 | 第34-35页 |
| ·减反膜的光学性能测试 | 第35页 |
| ·减反膜的亲水性测试 | 第35-36页 |
| 第3章 TiO_2光学薄膜折射率调控与非均匀性研究 | 第36-49页 |
| ·TiO_2薄膜的制备与表征 | 第36页 |
| ·TiO_2薄膜的结构分析 | 第36-37页 |
| ·TiO_2薄膜的成分分析 | 第37-38页 |
| ·TiO_2薄膜折射率的工艺调控 | 第38-42页 |
| ·沉积工艺参数对折射率的影响 | 第38-39页 |
| ·离子束辅助轰击对折射率的影响 | 第39-40页 |
| ·斜角入射沉积对折射率的影响 | 第40-41页 |
| ·TiO_2薄膜折射率的制备工艺调控综合评价 | 第41页 |
| ·退火热处理对折射率的影响 | 第41-42页 |
| ·TiO_2薄膜的折射率非均匀性研究 | 第42-45页 |
| ·基体表面特性对折射率非均匀性的影响 | 第43-44页 |
| ·退火热处理对薄膜折射率非均匀性的影响 | 第44-45页 |
| ·TiO_2薄膜的厚度非均匀性研究 | 第45-47页 |
| ·基体位置对厚度非均匀性的影响 | 第45-46页 |
| ·自转速度对厚度非均匀性的影响 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47-49页 |
| 第4章 TiO_2系分层介质减反膜的设计与制备 | 第49-67页 |
| ·TiO_2单层减反膜设计 | 第49-50页 |
| ·TiO_2系双层减反膜设计 | 第50-51页 |
| ·TiO_2系多层减反膜设计 | 第51-55页 |
| ·膜系设计技术指标 | 第52页 |
| ·镀膜材料选择 | 第52-53页 |
| ·软件设计流程与结果 | 第53-55页 |
| ·薄膜的制备 | 第55页 |
| ·薄膜的结构 | 第55-57页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第57-60页 |
| ·TiO_2单层减反膜的光学性能 | 第57-58页 |
| ·TiO_2系双层减反膜的光学性能 | 第58-59页 |
| ·TiO_2系多层减反膜的光学性能 | 第59-60页 |
| ·薄膜的亲水性 | 第60-62页 |
| ·MgF_2/TiO_2等双层减反膜的热应力模拟 | 第62-65页 |
| ·小结 | 第65-67页 |
| 第5章 MgF2-TiO_2渐变折射率减反膜的设计与研究 | 第67-76页 |
| ·理论模型与设计思路 | 第67-68页 |
| ·薄膜的制备 | 第68页 |
| ·薄膜的组织结构表征 | 第68-70页 |
| ·薄膜的光学性能分析 | 第70-75页 |
| ·小结 | 第75-76页 |
| 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 附录 A 攻读硕士期间所发表的学术论文目录 | 第84-85页 |
