新型可见光催化剂的制备及光电性能的研究
| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-24页 |
| ·印染废水处理现状 | 第10-13页 |
| ·印染废水来源 | 第10-11页 |
| ·印染废水特征及常见处理技术 | 第11-13页 |
| ·光催化氧化法 | 第13-21页 |
| ·光催化氧化技术的产生 | 第13页 |
| ·光催化氧化技术的研究现状 | 第13-14页 |
| ·可见光响应复合半导体研究现状 | 第14-16页 |
| ·n型半导体BiVO_4性质及光催化应用 | 第16-18页 |
| ·p型半导体CuBi_2O_4光催化应用现状 | 第18-19页 |
| ·光电催化技术 | 第19-21页 |
| ·论文研究思路与主要内容 | 第21-24页 |
| ·研究目的和意义 | 第21-22页 |
| ·研究内容 | 第22-23页 |
| ·研究思路 | 第23-24页 |
| 第二章 BiVO_4的制备与光电性能测试 | 第24-31页 |
| 引言 | 第24-25页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第25页 |
| ·实验方法 | 第25-27页 |
| ·FTO玻璃清洗 | 第26页 |
| ·BiVO_4膜的制备 | 第26页 |
| ·BiVO_4光电性质测试 | 第26-27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-30页 |
| ·不同有机物种类对BiVO_4光电性能的影响 | 第27-28页 |
| ·不同有机物浓度对BiVO_4光电性能的影响 | 第28-29页 |
| ·不同浓度电解质对BiVO_4光电性能的影响 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 CuBi_2O_4的制备与光电性能测试 | 第31-45页 |
| 引言 | 第31页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第31-32页 |
| ·实验方法 | 第32-34页 |
| ·FTO玻璃清洗 | 第32-33页 |
| ·CuBi_2O_4膜的制备 | 第33页 |
| ·CuBi_2O_4膜制备条件优化 | 第33页 |
| ·CuBi_2O_4膜光电性能测试 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-44页 |
| ·CuBi_2O_4膜制备条件影响 | 第34-40页 |
| ·CuBi_2O_4膜光电性能测试结果 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 p-n复合半导体的构建与光电性能测试 | 第45-55页 |
| 引言 | 第45-46页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第46-47页 |
| ·实验方法 | 第47-48页 |
| ·p-n复合半导体组装 | 第47-48页 |
| ·p-n复合半导体光电性能测试 | 第48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-53页 |
| ·不同有机物对p-n复合半导体光电性能影响 | 第48-50页 |
| ·不同浓度有机物对p-n复合半导体光电性能影响 | 第50-52页 |
| ·不同浓度电解质对p-n复合半导体光电性能影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 结论与展望 | 第55-58页 |
| ·结论 | 第55-56页 |
| ·创新点 | 第56页 |
| ·展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-66页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第66页 |
