中国在美专利的影响因素分析
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 1 导言 | 第10-13页 |
| ·研究背景及意义 | 第10页 |
| ·研究内容及研究方法 | 第10-11页 |
| ·研究内容 | 第10页 |
| ·研究方法 | 第10-11页 |
| ·论文基本框架 | 第11-12页 |
| ·研究的创新点与不足 | 第12-13页 |
| 2 国内外研究现状 | 第13-19页 |
| ·专利的产生和发展 | 第13页 |
| ·有关专利的研究 | 第13-19页 |
| ·有关专利数量指标的研究 | 第14-16页 |
| ·有关专利质量指标的研究 | 第16-17页 |
| ·有关专利评价指标体系的研究 | 第17-19页 |
| 3 专利及中美专利差异简介 | 第19-21页 |
| ·专利及专利意义 | 第19页 |
| ·中美专利差异简介 | 第19-21页 |
| 4 我国在美专利现状描述 | 第21-31页 |
| ·我国在美专利发展趋势 | 第21-24页 |
| ·我国在美专利总体发展趋势 | 第21页 |
| ·我国在美外观设计专利和发明专利占比变化 | 第21-22页 |
| ·我国在美专利增长速度 | 第22-24页 |
| ·我国在美专利分布特征 | 第24-30页 |
| ·分地区在美专利分布特征 | 第24-26页 |
| ·分技术领域在美专利分布特征 | 第26-29页 |
| ·分地区、分技术领域在美专利拥有量分布特征 | 第29-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 5 我国在美专利的影响因素分析 | 第31-38页 |
| ·变量选取及数据来源 | 第31-33页 |
| ·变量选取 | 第31页 |
| ·数据来源 | 第31-32页 |
| ·符号说明 | 第32-33页 |
| ·时序全局主成分分析 | 第33-34页 |
| ·逐步回归分析 | 第34-36页 |
| ·模型假设 | 第34页 |
| ·逐步回归 | 第34-36页 |
| ·模型结果 | 第36页 |
| ·结论 | 第36-38页 |
| 6 结束语 | 第38-41页 |
| ·结论探讨 | 第38-39页 |
| ·展望 | 第39-41页 |
| ·政策与建议 | 第39-40页 |
| ·模型优化展望 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-43页 |
| 致谢 | 第43-44页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第44页 |
