| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·Zr-N-C薄膜的研究现状 | 第8-9页 |
| ·论文工作的内容和意义 | 第9-10页 |
| 第二章 气相沉积技术概述 | 第10-18页 |
| ·气相沉积技术分类 | 第10-12页 |
| ·真空阴极电弧离子沉积技术 | 第12-16页 |
| ·阴极弧制备薄膜的应用 | 第16-18页 |
| 第三章 实验方法及设备 | 第18-22页 |
| ·实验设备简介及其特点 | 第18-20页 |
| ·检测样品制备过程 | 第20页 |
| ·实验材料成分 | 第20页 |
| ·薄膜分析设备介绍 | 第20-22页 |
| 第四章 利用阴极弧制备Zr-N-C复合薄膜的研究 | 第22-32页 |
| ·Zr-N-C薄膜样品的预处理和设计过程 | 第22-23页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第23-27页 |
| ·Zr-N-C薄膜的性能研究 | 第27-32页 |
| 结论 | 第32-34页 |
| 致谢 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-38页 |