| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 前言 | 第9-25页 |
| ·铁电薄膜的Sol-gel 制备工艺原理 | 第11-14页 |
| ·Sol-gel 工艺原理 | 第12-13页 |
| ·MOD 工艺原理 | 第13页 |
| ·Sol-gel 工艺制备PZT、PLZT、BST 薄膜的研究进展. | 第13-14页 |
| ·集成铁电技术的研究及应用进展 | 第14-16页 |
| ·铁电薄膜微细图形的研究及应用进展 | 第16-22页 |
| ·光刻胶－湿化学刻蚀法(Wet etching) | 第17页 |
| ·等离子体刻蚀法(RIE) | 第17-19页 |
| ·聚焦离子束刻蚀法(FIB) | 第19页 |
| ·电子束直写法(EBDW) | 第19-20页 |
| ·纳米压印法(NIL) | 第20页 |
| ·Sol-gel 直接感光法(Direct Patterning) | 第20-22页 |
| ·主要研究内容 | 第22-25页 |
| 2 实验方法 | 第25-35页 |
| ·实验方案 | 第28-32页 |
| ·PZT、PLZT、BST 系薄膜的感光性Sol-gel 工艺合成路线 | 第28-30页 |
| ·课题研究总体方案 | 第30-31页 |
| ·微细图形的顶电极制备 | 第31-32页 |
| ·铁电薄膜微阵列的制备及其电学性能研究 | 第32页 |
| ·实验设备与装置 | 第32-33页 |
| ·主要测试方法 | 第33-35页 |
| 3 PZT 薄膜的感光性Sol-gel 工艺微细图形制备及其性能研究 | 第35-59页 |
| ·PZT 感光性溶胶(PZT-AcAc-Sol) 合成及其化学反应机制 | 第35-40页 |
| ·PZT 感光性溶胶(PZT-BzAc-Sol) 合成及其化学反应机制 | 第40-44页 |
| ·PZT 凝胶的DTA 差热分析及其薄膜的IR 光谱分析 | 第44-46页 |
| ·PZT 薄膜的微细图形制备 | 第46-50页 |
| ·感光性PZT 溶胶及其凝胶薄膜的紫外感光性 | 第46-48页 |
| ·PZT 微细图形的直接感光法制备 | 第48-50页 |
| ·PZT 薄膜的结构、性能研究 | 第50-57页 |
| ·不同衬底上PZT 薄膜的晶体结构和电学性能分析 | 第50-55页 |
| ·PT 晶种层对PZT 薄膜相转变温度及其电学性能的影响 | 第55-57页 |
| ·不同前驱溶胶对PZT 薄膜的电学性能的影响 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 4 PLZT 薄膜感光性Sol-gel 工艺微细图形制备及其性能研究 | 第59-75页 |
| ·PLZT 感光性溶胶(PLZT-AcAc-Sol) 合成及其化学反应机制 | 第59-60页 |
| ·PLZT 感光性溶胶(PLZT-BzAc-Sol) 合成及其化学反应机制 | 第60-62页 |
| ·PLZT 凝胶的DTA 差热分析及其薄膜的IR 光谱分析 | 第62-64页 |
| ·PLZT 系薄膜的微细图形制备 | 第64-66页 |
| ·PLZT 凝胶薄膜的紫外光感光特性 | 第64页 |
| ·PLZT 微细图形的直接感光法制备 | 第64-66页 |
| ·PLZT 系铁电薄膜的结构、性能研究 | 第66-73页 |
| ·不同镧掺杂量对PLZT 薄膜的电学性能影响 | 第66-67页 |
| ·不同热处理温度对PLZT 薄膜的晶体结构和电学性能影响 | 第67-70页 |
| ·晶种层和衬底对PLZT 薄膜的结构和电学性能影响 | 第70-73页 |
| ·小结 | 第73-75页 |
| 5 BST 薄膜感光性Sol-gel 工艺微细图形制备及其性能研究 | 第75-87页 |
| ·BST8/2 感光性溶胶合成及其化学反应机制 | 第75-77页 |
| ·BST8/2 前驱凝胶的DTA 差热分析 | 第77-78页 |
| ·BST8/2 铁电薄膜的微细图形制备及其电学性能研究 | 第78-81页 |
| ·感光性BST8/2 溶胶及其凝胶薄膜的紫外感光性 | 第78-79页 |
| ·BST8/2 微细图形的直接感光法制备 | 第79-81页 |
| ·BST 铁电薄膜的晶体结构、电学性能研究 | 第81-86页 |
| ·不同Ba、Sr 组分对BST 薄膜的电学性能的影响 | 第81-82页 |
| ·热处理温度对BST8/2 薄膜晶体结构的影响 | 第82-85页 |
| ·热处理时间对BST8/2 薄膜铁电、介电性能的影响 | 第85页 |
| ·ITO 和Pt 底电极上制备的BST8/2 薄膜的电学性能对比 | 第85-86页 |
| ·小结 | 第86-87页 |
| 6 铁电薄膜感光性Sol-gel 工艺微阵列制备研究 | 第87-101页 |
| ·激光干涉及其周期性微细图形制备原理 | 第87-89页 |
| ·双光束干涉二次曝光微细图形制备方法 | 第89-90页 |
| ·PZT、PLZT 薄膜微阵列的制备 | 第90-94页 |
| ·PZT 薄膜微阵列的制备 | 第91-92页 |
| ·PLZT 薄膜微阵列的制备 | 第92-94页 |
| ·铁电薄膜微阵列的测试方法 | 第94-96页 |
| ·PZT 薄膜微阵列的铁电特性测试 | 第96-98页 |
| ·PLZT8/65/35 薄膜微阵列的铁电特性测试 | 第98-99页 |
| ·小结 | 第99-101页 |
| 7 模板组装法铁电薄膜微阵列制备研究 | 第101-107页 |
| ·感光性ZrO_2 溶胶的合成 | 第101-102页 |
| ·ZrO_2 凝胶薄膜的紫外感光特性 | 第102页 |
| ·ZrO_2 薄膜的二维格栅图形制备 | 第102-105页 |
| ·ZrO_2 格栅组装法PZT、PLZT 微阵列制备 | 第105-106页 |
| ·小结 | 第106-107页 |
| 8 结论 | 第107-109页 |
| 致谢 | 第109-111页 |
| 参考文献 | 第111-119页 |
| 在校学习期间发表的论文情况 | 第119页 |
