| 摘要 | 第1-6页 |
| Summary | 第6-14页 |
| 第一章 理论背景 | 第14-38页 |
| §1.1 分子的哈密顿量模型 | 第15-22页 |
| §1.1.1 振动哈密顿量 | 第15-19页 |
| §1.1.2 转动哈密顿量 | 第19-22页 |
| §1.2 二阶微扰论方法求解薛定谔方程 | 第22-24页 |
| §1.3 变分法求解薛定谔方程 | 第24-28页 |
| §1.3.1 XH_n分子(n≤4)XH伸缩振动对称化基函数 | 第24-25页 |
| §1.3.2 XH_nY_(4-n)分子(n=1,2)XH伸缩和弯曲对称化基函数 | 第25页 |
| §1.3.3 非对称陀螺分子转动对称基函数 | 第25-28页 |
| §1.4 分子振转跃迁强度 | 第28-30页 |
| §1.5 电偶极矩模型 | 第30-38页 |
| §1.5.1 键偶极模型和键矩理论 | 第31-32页 |
| §1.5.2 包含交叉项的键偶极模型 | 第32-38页 |
| 第二章 XH_n(n=3,4):第Ⅳ和Ⅴ主族氢化物分子伸缩振动光谱强度 | 第38-52页 |
| §2.1 概述 | 第38-40页 |
| §2.2 从头算和密度泛函偶极矩面 | 第40-44页 |
| §2.2.1 CH_4和SnH_4分子 | 第40-41页 |
| §2.2.2 NH_3和SbH_3分子 | 第41-44页 |
| §2.3 强度的计算和结果 | 第44-48页 |
| §2.3.1 CH_4和NH_3分子 | 第46-47页 |
| §2.3.2 SnH_4和SbH_3分子 | 第47-48页 |
| §2.4 讨论 | 第48-52页 |
| 第三章 XH_2分子:SiH_2Cl_2分子振动光谱的实验和理论研究 | 第52-76页 |
| §3.1 概述 | 第52-53页 |
| §3.2 SiH_2Cl_2分子的光谱记录 | 第53-56页 |
| §3.2.1 傅立叶变换光谱 | 第53-55页 |
| §3.2.2 FT-ICLAS记录的6V_1带 | 第55-56页 |
| §3.2.3 数据分析 | 第56页 |
| §3.3 SiH_2Cl_2分子的四阶力场 | 第56-65页 |
| §3.3.1 计算方法和细节 | 第59-60页 |
| §3.3.2 分子结构和谐振频率 | 第60-61页 |
| §3.3.3 非谐性力场分析 | 第61-65页 |
| §3.4 SiH发光团振动光谱强度 | 第65-72页 |
| §3.4.1 从头算偶极矩面 | 第65-67页 |
| §3.4.2 强度的计算和结果 | 第67-70页 |
| §3.4.3 讨论 | 第70-72页 |
| §3.5 从头算方法研究分子红外振转吸收光谱 | 第72-76页 |
| 第四章 XH_n小分子高分辨振转光谱研究 | 第76-110页 |
| §4.1 概述 | 第77-81页 |
| §4.2 H_2~(18)O分子的高分辨振转光谱 | 第81-91页 |
| §4.2.1 H_2~(18)O分子的研究进展 | 第81-82页 |
| §4.2.2 实验部分 | 第82-85页 |
| §4.2.3 振转结构分析和结果 | 第85-86页 |
| §4.2.4 讨论 | 第86-91页 |
| §4.3 D_2S分子的高分辨振转光谱 | 第91-101页 |
| §4.3.1 样品合成和光谱记录 | 第93-94页 |
| §4.3.2 谱线的归属和分析 | 第94-99页 |
| §4.3.3 D_2S分子振转能级的全局拟合 | 第99-101页 |
| §4.4 HDX(x=~(18)O,~(32)S)分子的高分辨振转光谱 | 第101-110页 |
| §4.4.1 HD~(18)O分子 | 第102-105页 |
| §4.4.2 HD~(32)S分子 | 第105-110页 |
| 附录一:H_2~(18)O分子转动能级 | 第110-122页 |
| 附录二:D_2S分子转动能级和有效光谱参数 | 第122-132页 |
| 附录三:HD~(18)O分子转动能级和有效光谱参数 | 第132-144页 |
| 附录四:HDS分子转动能级和有效光谱参数 | 第144-150页 |
| 参考文献 | 第150-158页 |
| 致谢 | 第158页 |
