摘要 | 第1-12页 |
第一章 钙钛矿结构(ABO3)氧化物薄膜概述 | 第12-25页 |
·钙钛矿结构氧化物(ABO3) | 第12-16页 |
·基本结构与性能 | 第12-13页 |
·变体与复合结构 | 第13-14页 |
·强关联电子体系 | 第14-16页 |
·钙钛矿结构氧化物薄膜 | 第16-19页 |
·钙钛矿结构氧化物薄膜的性质和应用 | 第16-19页 |
·薄膜制备技术简介 | 第19-23页 |
参考文献 | 第23-25页 |
第二章 激光分子束外延(Laser Molecular Beam Epitaxy) | 第25-44页 |
·激光分子束外延技术的产生和发展 | 第25-26页 |
·激光分子束外延设备的结构与原理 | 第26-32页 |
·外延生长原位实时监控手段与原理 | 第32-38页 |
·反射式高能电子衍射 | 第32-38页 |
·激光分子束外延(Laser—MBE)实验设备 | 第38-42页 |
参考文献 | 第42-44页 |
第三章 原位同步辐射电子结构研究 | 第44-81页 |
·同步辐射光电子能谱(SRPES) | 第44-68页 |
·同步辐射源简介(Synchrotron Radiation) | 第44-52页 |
·光电子能谱(PES)原理 | 第52-65页 |
·近边X射线吸收精细结构谱(NEXAFS)原理 | 第65-68页 |
·光电子能谱实验设备 | 第68-73页 |
·光源 | 第68-69页 |
·超高真空系统 | 第69页 |
·单色器 | 第69-70页 |
·能量分析器 | 第70-71页 |
·电子探测器 | 第71页 |
·北京同步辐射装置(BSRF)光电子能谱站 | 第71-73页 |
·近边X射线吸收精细结构谱(NEXAFS)实验设备 | 第73-74页 |
·原位电子结构研究 | 第74-78页 |
参考文献 | 第78-81页 |
第四章 钙钛矿结构系列氧化物LaFe_(1-x)Cr_xO_3薄膜外延生长与原位电子结构研究 | 第81-117页 |
·引言 | 第81-83页 |
·靶材的制备与掺杂体系结构研究 | 第83-88页 |
·样品与实验 | 第83页 |
·结果与讨论 | 第83-87页 |
·结论 | 第87-88页 |
·薄膜的外延生长与表征 | 第88-94页 |
·SrTiO_3基片处理 | 第88-90页 |
·薄膜外延生长与工艺条件摸索 | 第90-94页 |
·系列氧化物LaFe_(1-x)Cr_xO_3薄膜的原位电子结构研究 | 第94-111页 |
·光电子能谱全谱与价态分析 | 第95-97页 |
·掺杂体系中Fe与Cr3d电子共振光电子能谱(RPES)研究 | 第97-102页 |
·OK边NEXAFS谱与价带谱分析 | 第102-106页 |
·La4d—4f电子结构分析 | 第106-111页 |
·总结 | 第111-114页 |
参考文献 | 第114-117页 |
附录1 LaFe_(1-x)Cr_xO_3系列氧化物粉末样品的制备 | 第117-119页 |
附录2 宽展X射线精细结构分析(EXAFS)原理简介 | 第119-123页 |
附录3 放电等离子烧结(SPS)技术与原理 | 第123-126页 |
致谢 | 第126-128页 |
博士期间完成的论文 | 第128页 |