| 第一章 绪论 | 第1-24页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·强流脉冲电子束表面改性概述 | 第8-14页 |
| ·强流脉冲电子束的发展历史 | 第8-11页 |
| ·强流脉冲电子束表面改性研究现状及评价 | 第11-12页 |
| ·强流脉冲电子束表面改性特点 | 第12-13页 |
| ·目前存在的问题 | 第13-14页 |
| ·电子束与材料表面相互作用机理 | 第14-18页 |
| ·电子束与固体的相互作用 | 第14-15页 |
| ·电子束能量在作用区的分配(能量转换) | 第15-18页 |
| ·强脉冲束流产生的辐照损伤 | 第18-22页 |
| ·本文研究目标和研究内容 | 第22-24页 |
| ·设备调试 | 第22页 |
| ·工艺研究 | 第22页 |
| ·表面观察 | 第22页 |
| ·显微组织观察 | 第22-23页 |
| ·微结构分析 | 第23页 |
| ·研究目标 | 第23-24页 |
| 第二章 强流脉冲电子束设备 | 第24-33页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·装置组成 | 第25-26页 |
| ·工作原理 | 第26-29页 |
| ·强流脉冲电子束的运行机制 | 第26-27页 |
| ·基于真空火花等离子体的电子枪 | 第27-28页 |
| ·装置的工作过程 | 第28-29页 |
| ·工艺参数及测试 | 第29-32页 |
| ·工艺参数 | 第29-30页 |
| ·实验测试 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 强流脉冲电子束轰击铝表面的温度场数值模拟 | 第33-39页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·试验过程 | 第34-38页 |
| ·温度场数学物理模型 | 第34-37页 |
| ·模拟结果 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 强流脉冲电子束诱发的FCC 金属表面微观结构 | 第39-55页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·实验材料及方法 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-54页 |
| ·晶界与位错对表面熔坑密度的影响 | 第41-43页 |
| ·晶界与位错对表面熔坑形成机制的影响 | 第43-48页 |
| ·空位缺陷对表面熔坑的影响 | 第48-50页 |
| ·单晶铜样品中的表面结构 | 第50-53页 |
| ·纳米铜的表面结构分析 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 强流脉冲电子束诱发的单晶铜中空位簇缺陷结构 | 第55-67页 |
| ·引言 | 第55-56页 |
| ·位错结构 | 第56-57页 |
| ·空位簇缺陷 | 第57-63页 |
| ·讨论 | 第63-66页 |
| ·HCPEB 辐照过程中诱发的应力的估计 | 第63-65页 |
| ·一种新的变形机制的可能性 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-69页 |
| Ⅰ. 主要结论 | 第67页 |
| Ⅱ. 展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 摘要 | 第78-80页 |
| Abstract | 第80-82页 |