| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-15页 |
| ·光栅莫尔条纹原理 | 第8-10页 |
| ·莫尔条纹的特点 | 第10-11页 |
| ·莫尔条纹测角技术(光电轴角编码器)国内外现状 | 第11-12页 |
| ·光栅盘 | 第12-15页 |
| 第二章 反射式金属光栅成形工艺研究 | 第15-25页 |
| ·国内外反射式金属光栅研究情况 | 第15-16页 |
| ·长春光机所研制反射式金属光栅情况 | 第15页 |
| ·西安光机所研制反射式金属光栅情况 | 第15页 |
| ·爱尔兰科技大学制作反射式金属光栅情况 | 第15页 |
| ·德国海德汉制作反射式金属光栅情况 | 第15-16页 |
| ·反射式金属光栅条纹介质 | 第16-18页 |
| ·制作反射式金属光栅工艺流程 | 第18-19页 |
| ·反射式金属光栅制作工艺过程 | 第19-25页 |
| ·金膜-三氧化二铬光栅制作工艺过程 | 第19-21页 |
| ·银膜-三氧化二铬光栅制作过程 | 第21-23页 |
| ·超光滑金属表面-金属毛黑面制作过程 | 第23-25页 |
| 第三章 关键单元工艺技术研究 | 第25-40页 |
| ·金属膜的蒸镀 | 第25-26页 |
| ·金膜蒸镀工艺参数 | 第25-26页 |
| ·银膜的蒸镀 | 第26页 |
| ·感光材料的选择 | 第26-28页 |
| ·光刻胶转速-膜厚关系及膜厚均匀性分析 | 第28-30页 |
| ·确定最佳前烘焙温度 | 第30-32页 |
| ·确定最佳曝光条件 | 第32-34页 |
| ·确定最佳显影条件 | 第34-38页 |
| ·正交性试验原理 | 第35页 |
| ·正交试验数据分析 | 第35-36页 |
| ·最佳显影条件的试验安排 | 第36-38页 |
| ·确定后烘温度及时间 | 第38-40页 |
| 第四章 金属光栅盘制作 | 第40-47页 |
| ·金属光栅盘线条制作试验 | 第40-43页 |
| ·条纹介质为银膜-三氧化二铬光栅线条制作试验 | 第40页 |
| ·条纹介质为金膜-三氧化二铬光栅线条制作试验 | 第40-41页 |
| ·条纹介质为超光滑金属基板-金属毛黑面光栅线条制作试验 | 第41-43页 |
| ·金属光栅母版的制作 | 第43-44页 |
| ·金属光栅母版的设计 | 第43-44页 |
| ·金属光栅母版的刻划 | 第44页 |
| ·金属光栅盘设计及制作 | 第44-45页 |
| ·金属光栅盘设计 | 第44-45页 |
| ·光栅盘复制 | 第45页 |
| ·金属光栅盘精度 | 第45-47页 |
| 第五章 反射式金属光栅盘应用 | 第47-51页 |
| ·反射式金属编码器工作原理 | 第47-48页 |
| ·反射式金属编码器组成 | 第48-49页 |
| ·反射式金属编码器精度 | 第49-51页 |
| 第六章 结束语 | 第51-52页 |
| 本课题取得的成果 | 第51页 |
| 本课题的创新点 | 第51页 |
| 存在问题及几点建议 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第55页 |