| 第1章 绪论 | 第1-25页 |
| ·透明导电薄膜的研究现状 | 第9-10页 |
| ·二氧化锡透明导电薄膜的研究进展 | 第10-13页 |
| ·纯SnO_2薄膜(TO) | 第10-11页 |
| ·掺锑SnO_2薄膜(SnO_2：Sb) | 第11-12页 |
| ·掺氟SnO_2薄膜(SnO_2：F) | 第12-13页 |
| ·掺P的SnO_2薄膜(SnO_2：P) | 第13页 |
| ·其它掺杂 | 第13页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的应用与展望 | 第13-17页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的应用 | 第13-14页 |
| ·透明导电薄膜在低辐射玻璃中的应用 | 第14-17页 |
| ·透明导电薄膜的发展展望 | 第17页 |
| ·透明导电薄膜的制备方法 | 第17-21页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第17-18页 |
| ·离子镀膜 | 第18页 |
| ·化学气相沉积 | 第18-20页 |
| ·溅射镀膜法 | 第20页 |
| ·在线镀膜技术 | 第20-21页 |
| ·研究课题的提出与研就的目的 | 第21-22页 |
| 参考文献 | 第22-25页 |
| 第2章 ATO薄膜的理论基础 | 第25-41页 |
| ·二氧化锡的结构 | 第25-26页 |
| ·薄膜的生长 | 第26-30页 |
| ·薄膜生长的三种模式 | 第26-27页 |
| ·三维岛的生长阶段 | 第27-30页 |
| ·薄膜中的缺陷 | 第30-31页 |
| ·薄膜的晶体结构 | 第31-33页 |
| ·薄膜的晶体结构 | 第31-32页 |
| ·晶粒尺寸 | 第32页 |
| ·表面粗糙度 | 第32-33页 |
| ·薄膜的密度 | 第33页 |
| ·ATO薄膜的最佳掺杂量 | 第33-36页 |
| ·模型的建立 | 第33-34页 |
| ·理论计算 | 第34-36页 |
| ·ATO薄膜的导电机理 | 第36-37页 |
| ·ATO低辐射玻璃的节能原理 | 第37-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第3章 溅射法镀膜简介及本论文溅射镀膜和表征方法 | 第41-51页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·溅射镀膜法的原理 | 第41-43页 |
| ·常用溅射方式 | 第43-45页 |
| ·阴极直流溅射 | 第43页 |
| ·射频溅射 | 第43页 |
| ·磁控溅射 | 第43-44页 |
| ·反应溅射 | 第44-45页 |
| ·脉冲磁控溅射 | 第45页 |
| ·本论文的溅射制膜工艺 | 第45-47页 |
| ·薄膜的结构与性能表征方法 | 第47-50页 |
| ·薄膜结构的测定 | 第47页 |
| ·薄膜成分的测定 | 第47页 |
| ·薄膜表面形貌的测定 | 第47-48页 |
| ·光学性能测定 | 第48页 |
| ·电学性能测试 | 第48页 |
| ·中红外反射率测试 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第4章 制备工艺对薄膜光电性能的影响 | 第51-74页 |
| ·基片温度对ATO薄膜的光电性能的影响究 | 第51-60页 |
| ·试样制备 | 第51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-59页 |
| ·基片温度对薄膜结构的影响 | 第51-53页 |
| ·基片温度对薄膜形貌的影响 | 第53-54页 |
| ·XPS分析 | 第54-56页 |
| ·基片温度对薄膜电学性能的影响 | 第56-57页 |
| ·基片温度对光学性能的影响 | 第57-59页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| ·氧气分压对SnO_2：Sb透明导电薄膜的光电性能的影响 | 第60-68页 |
| ·试样制备 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-67页 |
| ·薄膜的XPS研究 | 第60-61页 |
| ·电学性能 | 第61-63页 |
| ·光学性能 | 第63-66页 |
| ·薄膜的红外反射光谱 | 第66-67页 |
| ·结论 | 第67-68页 |
| ·其它工艺的影响 | 第68-71页 |
| ·溅射功率对薄膜性能的影响 | 第68-70页 |
| ·试样制备 | 第68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-70页 |
| ·溅射时间的影响 | 第70-71页 |
| ·试样制备 | 第70页 |
| ·结果与讨论 | 第70-71页 |
| ·结论 | 第71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-74页 |
| 第5章 退火工艺 | 第74-88页 |
| ·退火温度对薄膜性能的影响 | 第74-77页 |
| ·试样制备 | 第74页 |
| ·结果与讨论 | 第74-77页 |
| ·退火时间的影响 | 第77-78页 |
| ·试样制备 | 第77页 |
| ·结果与讨论 | 第77-78页 |
| ·在线真空退火工艺研究 | 第78-86页 |
| ·真空退火时间的影响 | 第78-81页 |
| ·试样制备 | 第78-79页 |
| ·结果与讨论 | 第79-81页 |
| ·镀膜和退火间隔工艺的影响 | 第81-83页 |
| ·试样制备 | 第81-82页 |
| ·结果与讨论 | 第82-83页 |
| ·SiO_2隔离层对薄膜电性能的影响 | 第83-86页 |
| ·样品的制备 | 第83-84页 |
| ·结果与讨论 | 第84-86页 |
| ·本章小结 | 第86-88页 |
| 第6章 结论 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89页 |