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三靶磁溅式真空镀膜机电气控制系统的研究

摘要第1-8页
Abstract第8-9页
第1章 绪论第9-14页
 1.1 真空镀膜机的发展趋势第9页
 1.2 真空镀膜机概述第9-11页
  1.2.1 真空镀膜的应用第10页
  1.2.2 真空镀膜原理第10-11页
  1.2.3 真空镀膜的结构第11页
 1.3 主要研究内容与创新之处第11-13页
  1.3.1 PLC电气控制系统第11-12页
  1.3.2 分子泵的VVVF自适应调速第12页
  1.3.3 靶电源的模糊PID控制第12-13页
  1.3.4 基于软件模式的电机软起动第13页
 1.4 小结第13-14页
第2章 镀膜机电气控制系统整体方案的设计第14-23页
 2.1 真空镀膜机电气控制系统的分析第14-20页
  2.1.1 真空镀膜机电气控制系统的技术要求第14页
  2.1.2 SCS-850Z型真空镀膜机结构分析第14-16页
  2.1.3 真空镀膜机工艺流程的分析第16-19页
  2.1.4 输入输出对象的分析第19-20页
 2.2 真空镀膜机电气控制系统整体方案的设计第20-22页
  2.2.1 控制系统整体方案第20-21页
  2.2.2 控制系统整体方案论证第21-22页
 2.3 小结第22-23页
第3章 PLC控制单元与检测单元设计第23-38页
 3.1 PLC控制单元的设计方案与论证第23-26页
  3.1.1 PLC控制单元的技术要求第23页
  3.1.2 PLC型号选择方案与论证第23-24页
  3.1.3 PLC主机选择方案与论证第24-25页
  3.1.4 模拟量输入生产模块选择方案与论证第25页
  3.1.5 控制单元的设计方案第25-26页
 3.2 PLC的接口电路设计第26-28页
 3.3 PLC编程设计第28-31页
  3.3.1 地址分配表第28-29页
  3.3.2 PLC数据处理第29-30页
  3.3.3 PLC程序设计第30-31页
 3.4 PLC程序调试第31-32页
 3.5 检测单元与触摸屏的设计第32-37页
  3.5.1 检测单元与触摸屏的技术要求第32页
  3.5.2 气体流量检测装置第32-33页
  3.5.3 冷却水水温检测装置第33-34页
  3.5.4 真空测量装置第34页
  3.5.5 触摸屏的设计第34-37页
 3.6 小结第37-38页
第4章 靶电源设计第38-50页
 4.1 靶电源整体方案的设计与论证第38-39页
  4.1.1 靶电源技术参数与要求第38页
  4.1.2 靶电源整体设计方案第38-39页
  4.1.3 靶电源方案论证第39页
 4.2 靶电源电路设计第39-44页
  4.2.1 靶电源主电路设计第39-42页
  4.2.2 电流反馈与脉冲触发电路设计第42-43页
  4.2.3 靶电源电路设计第43-44页
 4.3 靶电源模糊控制的研究第44-49页
  4.3.1 模糊控制的基本思想第44-45页
  4.3.2 靶电源模糊控制的软件程序设计第45-49页
 4.4 小结第49-50页
第5章 真空旋转单元设计第50-56页
 5.1 真空旋转单元的调速方案第50-51页
  5.1.1 真空旋转单元的技术要求第50页
  5.1.2 直流调速与交流调速的比较第50页
  5.1.3 直流电机调速方案与论证第50-51页
 5.2 直流调速电路设计第51-53页
  5.2.1 直流电机的参数第51-52页
  5.2.2 直流调速电路设计第52-53页
 5.3 直流电机软起动设计第53-55页
  5.3.1 PLC控制量的计算第53-55页
  5.3.2 直流电机软起动程序设计第55页
 5.4 小结第55-56页
第6章 交流调速自适应控制的设计第56-67页
 6.1 交流调速方案与论证第56-57页
  6.1.1 交流调速技术参数与要求第56页
  6.1.2 交流调速方案第56-57页
  6.1.3 交流调速方案论证第57页
 6.2 分子泵变频调速电路设计第57-64页
  6.2.1 变频调速电路整体方案与论证第57-58页
  6.2.2 分子泵变频调速电路的设计第58-64页
 6.3 分子泵调速自适应控制的研究第64-66页
  6.3.1 自适应控制简介第64页
  6.3.2 分子泵调速自适应控制的PLC程序设计第64-66页
 6.4 小结第66-67页
结论第67-69页
参考文献第69-72页
致谢第72-73页
附录A(攻读学位期间所发表的学术论文目录)第73-74页
附录B(证明材料)第74页

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