ITO（铟锡氧化物）纳米粉体的制备及其表征
| 目录 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·纳米吸波材料 | 第8-13页 |
| ·纳米吸波材料类型 | 第9-11页 |
| ·纳米金属与合金吸收剂 | 第9-10页 |
| ·纳米氧化物吸收剂 | 第10页 |
| ·纳米陶瓷吸收剂 | 第10页 |
| ·纳米导电聚合物吸收剂 | 第10-11页 |
| ·纳米金属膜与绝缘介质复合吸收剂 | 第11页 |
| ·有机—无机纳米复合吸收剂 | 第11页 |
| ·纳米吸波材料吸波机理及其特点 | 第11-13页 |
| ·吸波机理 | 第11-13页 |
| ·吸波特点 | 第13页 |
| ·ITO(铟锡氧化物)的应用及研究现状 | 第13-16页 |
| ·ITO(铟锡氧化物)的应用 | 第13-15页 |
| ·ITO(铟锡氧化物)的制备方法 | 第15-16页 |
| ·课题研究的意义 | 第16-18页 |
| 第二章 共沉淀法制备ITO纳米粉体 | 第18-27页 |
| ·共沉淀法的原理及特点 | 第18页 |
| ·试剂和仪器 | 第18-19页 |
| ·实验步骤 | 第19-20页 |
| ·ITO粉体的分析 | 第20页 |
| ·结果与讨论 | 第20-26页 |
| ·反应介质 | 第20-21页 |
| ·共沉淀pH值 | 第21-22页 |
| ·沉淀剂和沉淀温度 | 第22页 |
| ·共沉淀前驱体的差热分析(DTA) | 第22页 |
| ·煅烧温度 | 第22-24页 |
| ·分散剂 | 第24-25页 |
| ·ITO粉末的透射电镜(TEM)分析 | 第25-26页 |
| ·ITO粉末的差热(DTA)分析 | 第26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 水热法制备ITO纳米粉体 | 第27-46页 |
| ·水热法制备原理及特点 | 第27-29页 |
| ·水热法概述 | 第27-28页 |
| ·水热法制备原理 | 第28页 |
| ·水热法及其制备粉体的特点 | 第28-29页 |
| ·试剂和仪器 | 第29-30页 |
| ·实验方法与讨论 | 第30-45页 |
| ·水热法 | 第30页 |
| ·水热法实验结果讨论 | 第30-35页 |
| ·水热反应温度和时间的影响 | 第30-33页 |
| ·添加矿化剂 | 第33-34页 |
| ·反应介质的改变 | 第34-35页 |
| ·水热—煅烧法制备ITO纳米粉体 | 第35-42页 |
| ·水热后前驱体煅烧温度的差热(DTA)分析 | 第36-37页 |
| ·ITO粉体的X衍射分析 | 第37-39页 |
| ·ITO粉体的BET分析 | 第39-41页 |
| ·ITO粉体的扫描电镜(SEM)分析 | 第41-42页 |
| ·ITO粉体的透射电镜(TEM)分析 | 第42页 |
| ·氢氧化铟水热机理探讨 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 ITO粉体的性能表征 | 第46-59页 |
| ·ITO粉体的电学性能表征 | 第46-50页 |
| ·ITO的晶体结构 | 第46页 |
| ·ITO的电学性质 | 第46-47页 |
| ·ITO粉体电学性能的结果与讨论 | 第47-50页 |
| ·Sn掺杂量的影响 | 第47-48页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第48-50页 |
| ·小结 | 第50页 |
| ·ITO粉体的微波吸收性能表征 | 第50-57页 |
| ·雷达波段的反射率 | 第51-52页 |
| ·ITO粉体的微波吸收性能 | 第52-56页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第52-54页 |
| ·分散剂的影响 | 第54-55页 |
| ·水热反应温度的影响 | 第55页 |
| ·制备方法的影响 | 第55-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| ·ITO在红外区的反射性能 | 第57-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 硕士学习期间发表(撰写)的论文 | 第65页 |
