| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| ·薄膜材料概述 | 第12-13页 |
| ·界面调制在薄膜材料中的作用 | 第13-19页 |
| ·晶格失配诱导应力的产生 | 第13-15页 |
| ·基片表面台阶诱导应力的产生 | 第15-17页 |
| ·金属纳米颗粒表面等离子激元效应 | 第17-19页 |
| ·本论文的研究目的和研究重点 | 第19-20页 |
| 第二章 薄膜的制备技术及表征方法 | 第20-28页 |
| ·脉冲激光沉积技术制备功能氧化物薄膜 | 第20-22页 |
| ·脉冲激光沉积技术基本原理 | 第20页 |
| ·实验设备 | 第20-21页 |
| ·薄膜的制备条件 | 第21-22页 |
| ·反应磁控溅射技术制备功能氧化物薄膜 | 第22-24页 |
| ·反应磁控溅射技术基本原理 | 第22-24页 |
| ·实验设备 | 第24页 |
| ·薄膜的制备条件 | 第24页 |
| ·薄膜样品的表征方法 | 第24-28页 |
| ·微观结构表征 | 第24-25页 |
| ·介电性能表征 | 第25-27页 |
| ·铁电性能表征 | 第27页 |
| ·光学性能表征 | 第27-28页 |
| 第三章 基片界面调制对(La,Ba)Co_2O_(5.5+δ)薄膜低温物理性能的影响 | 第28-56页 |
| ·引言 | 第28-30页 |
| ·LBCO薄膜的制备与表征方法 | 第30页 |
| ·LBCO薄膜的微观结构和低温物理性能 | 第30-46页 |
| ·LBCO/STO薄膜的结构表征与性能分析 | 第30-37页 |
| ·LBCO/NGO薄膜的结构表征与性能分析 | 第37-39页 |
| ·LBCO/MgO薄膜的结构表征与性能分析 | 第39-43页 |
| ·LBCO/LAO薄膜的结构表征与性能分析 | 第43-46页 |
| ·基片对外延薄膜低温物理性能调制的基本规律 | 第46-53页 |
| ·晶格失配度对LBCO薄膜物理性能的影响 | 第46-49页 |
| ·基片错切角对薄膜物理性能的影响 | 第49-53页 |
| ·LBCO薄膜的高温电输运性质 | 第53-55页 |
| ·本章总结 | 第55-56页 |
| 第四章 多层膜界面调制对介电薄膜物理性能的影响 | 第56-71页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·Mn:BST与Mn:BZT单层膜和多层膜的制备条件 | 第56-57页 |
| ·Mn掺杂对BST薄膜微波介电性能的影响 | 第57-60页 |
| ·Mn:BST薄膜的结构表征 | 第57-60页 |
| ·Mn:BST薄膜的性能分析 | 第60页 |
| ·Mn掺杂对BZT薄膜的微波介电性能的影响 | 第60-64页 |
| ·Mn:BZT薄膜的结构表征 | 第60-62页 |
| ·Mn:BZT薄膜的性能分析 | 第62-64页 |
| ·(Mn:BZT//Mn:BST)/MgO多层膜的结构与微波介电性能 | 第64-70页 |
| ·(Mn:BZT//Mn:BST)/MgO多层膜的设计 | 第64-65页 |
| ·(Mn:BZT//Mn:BST)/MgO多层膜的结构表征 | 第65-67页 |
| ·(Mn:BZT//Mn:BST)/MgO多层膜的性能分析 | 第67-70页 |
| ·本章总结 | 第70-71页 |
| 第五章 多层膜界面调制对BTO//STO多层膜介电性能的影响 | 第71-84页 |
| ·引言 | 第71页 |
| ·(BTO_(0.4)//STO_(0.6))_N/MgO多层膜的结构与微波介电性能 | 第71-75页 |
| ·(BTO_(0.4)//STO_(0.6))_N/MgO多层膜的设计与制备方法 | 第71-72页 |
| ·(BTO_(0.4)//STO_(0.6))_N/MgO多层膜的结构表征 | 第72-74页 |
| ·(BTO_(0.4)//STO_(0.6))_N/MgO多层膜的性能分析 | 第74-75页 |
| ·(BTO_(0.5)//STO_(0.5))_(16)/MgO多层膜的结构与微波介电性能 | 第75-78页 |
| ·(BTO_(0.6)//STO_(0.4))_(12)/Ni多层膜的结构与介电性能 | 第78-83页 |
| ·(BTO_(0.6)//STO_(0.4))_(12)/Ni多层膜的设计与制备方法 | 第78-79页 |
| ·(BTO_(0.6)//STO_(0.4))_(12)/Ni多层膜的结构表征 | 第79-82页 |
| ·(BTO_(0.6)//STO_(0.4))_(12)/Ni多层膜的物理性能 | 第82-83页 |
| ·本章总结 | 第83-84页 |
| 第六章 界面调制对ZnO薄膜光学性质的影响 | 第84-111页 |
| ·引言 | 第84页 |
| ·氧分压对ZnO薄膜生长行为和光学性能的影响 | 第84-93页 |
| ·薄膜制备方法 | 第84页 |
| ·不同氧分压下的等离子发射光谱 | 第84-87页 |
| ·不同氧分压下ZnO薄膜的表面形貌分析 | 第87-89页 |
| ·不同氧分压下ZnO薄膜的光学特性分析 | 第89-93页 |
| ·蓝宝石基片的处理方法对ZnO薄膜生长行为的影响 | 第93-100页 |
| ·薄膜制备方法 | 第93页 |
| ·基片处理方法对基片表面形貌的影响 | 第93-96页 |
| ·基片处理方法对ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第96-98页 |
| ·ZnO薄膜形貌的标度分析 | 第98-100页 |
| ·Ti缓冲层对ZnO薄膜结晶质量和发光特性的影响 | 第100-102页 |
| ·薄膜制备方法 | 第100页 |
| ·ZnO薄膜的结晶质量和发光性能 | 第100-102页 |
| ·Ag纳米颗粒对ZnO薄膜发光性能的影响 | 第102-110页 |
| ·嵌有Ag纳米颗粒的ZnO制备条件 | 第102-103页 |
| ·嵌有Ag纳米颗粒的ZnO薄膜的结构表征 | 第103-105页 |
| ·嵌有Ag纳米颗粒的ZnO薄膜的光学性质 | 第105-110页 |
| ·本章总结 | 第110-111页 |
| 结论 | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-121页 |
| 攻读博士学位期间已发表的学术论文 | 第121-125页 |
| 创新点 | 第125-126页 |
| 致谢 | 第126-127页 |
| 作者简介 | 第127-128页 |
