| 中文摘要 | 第1-3页 |
| 英文摘要 | 第3-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-23页 |
| 1．1 PLD技术在薄膜制备中的应用 | 第9-14页 |
| 1．1．1 PLD技术的工作原理 | 第10-11页 |
| 1．1．2 PLD技术的特点与优势 | 第11-12页 |
| 1．1．3 PLD技术的应用 | 第12-14页 |
| 1．2 磁性分类 | 第14-17页 |
| 1．2．1 磁性分类 | 第15-16页 |
| 1．2．2 铁磁性物质的基本特征 | 第16-17页 |
| 1．3 NiZn铁氧体的结构、应用与制备方法 | 第17-21页 |
| 1．3．1 NiZn铁氧体的结构 | 第17-18页 |
| 1．3．2 NiZn铁氧体的应用 | 第18-20页 |
| 1．3．3 NiZn铁氧体薄膜的制备方法 | 第20-21页 |
| 1．4 本论文研究的目的、意义和内容 | 第21-23页 |
| 第二章 实验 | 第23-25页 |
| 2．1 实验设计 | 第23页 |
| 2．2 实验装置和过程 | 第23-24页 |
| 2．3 测试与分析 | 第24-25页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第25-46页 |
| 3．1 PLD法制备的NiZn铁氧体薄膜结构性质 | 第25-32页 |
| 3．1．1 微结构 | 第25-28页 |
| 3．1．2 X射线衍射 | 第28-32页 |
| 3．2 PLD法制备的NiZn铁氧体薄膜的成膜机制研究 | 第32-35页 |
| 3．2．1 沉积速率与基片温度的关系 | 第32-34页 |
| 3．2．2 沉积速率与氧压的关系 | 第34-35页 |
| 3．3 PLD法制备的NiZn铁氧体薄膜的磁性能 | 第35-41页 |
| 3．3．1 基片温度与磁性能的关系 | 第35-38页 |
| 3．3．2 不同基片薄膜磁性能的比较 | 第38-40页 |
| 3．3．3 磁性能随氧压的变化 | 第40-41页 |
| 3．4 热处理对PLD技术制备的NiZn铁氧体薄膜磁性能的影响 | 第41-44页 |
| 3．5 室温下外加磁场对薄膜磁性能的影响 | 第44-46页 |
| 第四章 结论与展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-53页 |
| 攻读学位期间出版或公开发表的论著、论文 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |