精密陶瓷球双自转研磨方式下表面质量的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 符号说明 | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| ·课题研究背景与目的 | 第11-13页 |
| ·陶瓷球的加工过程 | 第13-16页 |
| ·陶瓷球材料 | 第13-15页 |
| ·陶瓷球的机械加工过程 | 第15-16页 |
| ·国内外研究现状 | 第16-24页 |
| ·陶瓷球表面质量对轴承工作性能的影响 | 第16-18页 |
| ·陶瓷球研磨方式的研究 | 第18-20页 |
| ·陶瓷球研磨工艺的研究 | 第20-22页 |
| ·陶瓷球表面材料去除机理的研究 | 第22-23页 |
| ·陶瓷球表面不完整性的研究 | 第23-24页 |
| ·陶瓷球的化学机械抛光 | 第24页 |
| ·论文的主要研究内容与结构安排 | 第24-25页 |
| ·论文主要研究内容 | 第24-25页 |
| ·论文结构安排 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第二章 陶瓷球表面的材料去除形式 | 第26-36页 |
| ·材料去除形式的分类 | 第26-27页 |
| ·陶瓷球材料去除形式的实验研究 | 第27-34页 |
| ·实验过程 | 第27-28页 |
| ·实验结果 | 第28-31页 |
| ·材料去除形式的转变条件 | 第31-33页 |
| ·陶瓷球材料形式的确定 | 第33-34页 |
| ·研磨过程中陶瓷球材料去除的基本模型 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 加工参数对陶瓷球表面质量影响的实验研究 | 第36-49页 |
| ·实验条件 | 第36-39页 |
| ·实验设备 | 第36-38页 |
| ·实验球坯 | 第38页 |
| ·工艺参数 | 第38页 |
| ·检测方法 | 第38-39页 |
| ·研磨加工参数对表面粗糙度的影响 | 第39-41页 |
| ·压力的影响 | 第39-40页 |
| ·研磨速度的影响 | 第40页 |
| ·磨料粒度的影响 | 第40-41页 |
| ·加工参数对表面缺陷的影响 | 第41-44页 |
| ·缺陷的统计与分类 | 第41-43页 |
| ·表面凹坑与裂纹 | 第43-44页 |
| ·陶瓷球表面残余应力 | 第44-48页 |
| ·陶瓷球表面残余应力的形成 | 第44-45页 |
| ·X射线衍射分析方法测试原理 | 第45-46页 |
| ·测试结果 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 陶瓷球研磨工艺参数优化技术研究 | 第49-62页 |
| ·实验条件 | 第49-50页 |
| ·实验设计方法 | 第50-52页 |
| ·参数水平的选择 | 第50页 |
| ·正交表设计 | 第50-51页 |
| ·实验设计 | 第51-52页 |
| ·实验数据评价与分析方法 | 第52-54页 |
| ·数据评价 | 第52-53页 |
| ·水平平均响应分析 | 第53-54页 |
| ·方差分析 | 第54页 |
| ·实验结果和分析 | 第54-59页 |
| ·实验数据计算 | 第55-56页 |
| ·水平平均响应分析 | 第56-58页 |
| ·方差分析 | 第58-59页 |
| ·讨论 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 陶瓷球的化学机械抛光 | 第62-72页 |
| ·化学机械抛光的原理 | 第62-63页 |
| ·化学机械抛光机理的分析 | 第63-68页 |
| ·化学机械抛光中的磨料 | 第63-65页 |
| ·磨料与工件之间的化学机械作用 | 第65-66页 |
| ·抛光环境的影响 | 第66-68页 |
| ·Si_3N_4陶瓷球的化学机械抛光实验 | 第68-70页 |
| ·抛光条件 | 第68-69页 |
| ·抛光结果 | 第69页 |
| ·陶瓷球化学机械抛光表面生产物的检测 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第六章 总结与展望 | 第72-74页 |
| ·研究总结 | 第72页 |
| ·课题展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第82页 |
