| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-9页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·论文的研究目的及内容 | 第7-9页 |
| 第二章 文献的综合评论 | 第9-21页 |
| ·薄膜沉积技术 | 第9-11页 |
| ·阴极真空电弧装置 | 第11-17页 |
| ·ZrN的特征 | 第17-18页 |
| ·ZrO_2的特征 | 第18-21页 |
| 第三章 基底偏压对ZrN薄膜和ZrO_2薄膜的影响 | 第21-34页 |
| ·基底偏压对ZrN薄膜的结构和性质的影响 | 第21-28页 |
| ·基底偏压对ZrO_2薄膜的结构和性质的影响 | 第28-34页 |
| 第四章 反应气体流量对ZrN薄膜和ZrO_2薄膜的影响 | 第34-47页 |
| ·N_2流量对ZrN薄膜影响 | 第34-40页 |
| ·O_2流量对ZrO_2薄膜影响 | 第40-47页 |
| 总结 | 第47-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |