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可调波长与带宽的光学器件镀膜技术的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-8页
第一章 绪论第8-12页
   ·引言第8-9页
   ·国内外发展状况第9-10页
     ·国内研究现状第9-10页
     ·国外研究现状第10页
   ·任务的提出及方案的确定第10-12页
第二章 膜系计算的理论基础第12-19页
   ·膜系等效折射率原理第12-13页
   ·截止带宽度计算原理第13-14页
   ·截止带的展宽第14-15页
   ·通带波纹的压缩第15-19页
第三章 膜系设计第19-29页
   ·短波通滤光片的基本要求第19页
   ·膜料的选择第19-22页
     ·透明度第19-20页
     ·折射率第20页
     ·机械牢固度和化学稳定性第20-21页
     ·膜料的分析选择第21-22页
   ·材料实际折射率的测定第22页
   ·膜系设计第22-29页
     ·通带展宽膜系设计第22-25页
     ·截止带展宽膜系设计第25-29页
第四章 制备工艺第29-36页
   ·真空镀膜机原理及实验装置第29-30页
   ·晶控法监控原理第30-32页
   ·工艺因子的确定第32-33页
   ·薄膜厚度的均匀性第33-34页
   ·膜系制备工艺过程第34-36页
第五章 测量结果及分析第36-43页
   ·产品的质量检测第36-39页
     ·光学指标的检测第36-38页
     ·光洁度的测试第38页
     ·牢固度牢固度测试第38页
     ·化学稳定性测试第38-39页
   ·半波孔产生的原因第39-40页
     ·膜厚控制误差第39页
     ·膜层折射率非均匀性第39-40页
   ·工艺因素对测试结果的影响第40-41页
   ·长波通短波通组合测试曲线第41-43页
结论第43-44页
致谢第44-45页
参考文献第45-46页

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