| 摘要 | 第1-6页 |
| abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| ·太阳能光伏产业的前景及发展现状 | 第11-15页 |
| ·太阳电池的分类 | 第15-17页 |
| ·晶体硅太阳电池 | 第15-16页 |
| ·薄膜太阳电池 | 第16-17页 |
| ·光化学太阳电池 | 第17页 |
| ·硅材料的制备工艺介绍 | 第17-19页 |
| ·多晶硅锭的制备 | 第17-18页 |
| ·单晶硅锭的制备 | 第18-19页 |
| ·晶硅太阳电池的制备工艺介绍 | 第19-24页 |
| ·硅片检测 | 第20页 |
| ·清洗制绒 | 第20-21页 |
| ·扩散制结 | 第21页 |
| ·等离子刻蚀 | 第21-22页 |
| ·去磷硅玻璃 | 第22页 |
| ·沉积钝化减反膜 | 第22-23页 |
| ·丝网印刷 | 第23-24页 |
| ·快速烧结 | 第24页 |
| ·测试分选 | 第24页 |
| ·氮化硅减反膜在晶硅太阳电池中的应用 | 第24-28页 |
| ·氮化硅薄膜的发展 | 第24-26页 |
| ·与其他减反膜的比较 | 第26页 |
| ·光伏行业中常见的氮化硅减反膜制备方法 | 第26-28页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第28-29页 |
| 第二章 理论分析 | 第29-36页 |
| ·太阳电池原理 | 第29-31页 |
| ·半导体的特点 | 第29页 |
| ·本征半导体 | 第29-30页 |
| ·掺杂半导体 | 第30页 |
| ·PN结的形成与特性 | 第30-31页 |
| ·晶硅太阳电池原理 | 第31-32页 |
| ·晶硅太阳电池的减反射与氢钝化 | 第32-34页 |
| ·晶硅太阳电池的减反射 | 第32-34页 |
| ·晶硅太阳电池的氢钝化 | 第34页 |
| ·影响太阳电池光电转化效率的因素 | 第34-36页 |
| 第三章 单双层氮化硅钝化减反膜的比对研究 | 第36-43页 |
| ·主要设备和仪器 | 第36-37页 |
| ·主要原材料及规格 | 第37页 |
| ·单层氮化硅减反膜和双层氮化硅减反膜的的制备 | 第37-39页 |
| ·氮化硅减反膜的制备 | 第38页 |
| ·氮化硅减反膜的表征 | 第38-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-42页 |
| ·双层氮化硅减反膜对多晶硅少子寿命的影响 | 第39-40页 |
| ·双层氮化硅减反膜对多晶硅反射率的影响 | 第40-41页 |
| ·双层氮化硅镀膜对多晶硅太阳能电池电性能的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 工艺参数对双层氮化硅减反膜性能的影响研究 | 第43-51页 |
| ·主要设备和仪器 | 第43-44页 |
| ·主要原材料及规格 | 第44页 |
| ·双层氮化硅减反膜的制备与表征 | 第44-45页 |
| ·双层氮化硅减反膜的制备 | 第45页 |
| ·双层氮化硅减反膜的表征 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-50页 |
| ·温度对双层氮化硅减反膜性能的影响 | 第45-46页 |
| ·射频频率对双层氮化硅减反膜性能的影响 | 第46-47页 |
| ·射频功率对双层氮化硅性能的影响 | 第47-48页 |
| ·腔室压力对氮化硅减反膜性能的影响 | 第48-49页 |
| ·优化前后对太阳电池电性能对比分析 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 彩色高效太阳电池的探索性研究 | 第51-57页 |
| ·彩色高效太阳电池的发展现状与意义 | 第51-52页 |
| ·彩色高效太阳电池的制备方法 | 第52-54页 |
| ·磁控溅射 | 第53-54页 |
| ·电子束蒸发镀膜 | 第54页 |
| ·PECVD与电子束蒸发镀膜结合制备彩色高效太阳电池 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第六章 结论与展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 附录A (攻读学位期间发表的论文) | 第64-65页 |
| 附录B | 第65-66页 |
| 附件 | 第66-76页 |