| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-30页 |
| ·热电材料简介 | 第11-22页 |
| ·热电材料的历史和分类 | 第11-16页 |
| ·热电效应的原理 | 第16-21页 |
| ·提高热电材料热电性能的主要途径 | 第21-22页 |
| ·热电材料研究进展 | 第22-26页 |
| ·热电材料的研究方向 | 第22页 |
| ·热电材料的制备方法 | 第22-24页 |
| ·电沉积合金 | 第24-26页 |
| ·Bi-Sb 热电材料的研究进展 | 第26-29页 |
| ·Bi-Sb 合金的性能及优点 | 第26-27页 |
| ·Bi-Sb 热电材料的研究进展 | 第27-28页 |
| ·Bi-Sb 合金的掺杂研究 | 第28-29页 |
| ·本文的研究思路和主要内容 | 第29-30页 |
| 2 实验方法 | 第30-37页 |
| ·实验仪器与主要试剂 | 第30-31页 |
| ·实验仪器 | 第30页 |
| ·主要试剂 | 第30-31页 |
| ·沉积膜样品的制备 | 第31-32页 |
| ·基体材料 | 第31页 |
| ·制备流程 | 第31页 |
| ·电解液体系 | 第31页 |
| ·三电极体系电沉积 | 第31-32页 |
| ·沉积膜样品成分分析 | 第32-35页 |
| ·沉积膜的剥离 | 第32页 |
| ·铋离子的检测 | 第32-33页 |
| ·锑离子的检测 | 第33-34页 |
| ·镧的检测 | 第34页 |
| ·铈的检测 | 第34-35页 |
| ·沉积膜样品形貌结构 | 第35-37页 |
| ·DSC 分析 | 第35-36页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第36页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第36-37页 |
| 3 Sb（Ⅲ）-HCl-H_2O 体系中 Sb（Ⅲ）各形体分布及其与柠檬酸配合物稳定常数的测定 | 第37-47页 |
| ·锑的配合物与 Sb（Ⅲ）水解体系 | 第37-38页 |
| ·热力学计算、实验分析的理论依据和方法 | 第38-41页 |
| ·热力学计算模型 | 第38-40页 |
| ·实验原理和分析方法 | 第40-41页 |
| ·试液配制 | 第41页 |
| ·热力学计算结果与讨论 | 第41-46页 |
| ·热力学计算结果 | 第41-43页 |
| ·实验结果与讨论 | 第43-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 4 Bi-Sb 合金膜电沉积中极化曲线的应用 | 第47-55页 |
| ·前言 | 第47页 |
| ·极化曲线在合金电沉积研究中的应用 | 第47页 |
| ·选择添加剂 | 第47页 |
| ·电沉积合金 | 第47页 |
| ·极化曲线的研究与沉积液体系的选择 | 第47-54页 |
| ·Bi-Sb 沉积液体系主盐的选择 | 第48-49页 |
| ·Sb(Ⅲ)、Bi(Ⅲ)与其合金 Bi-Sb 极化曲线的比较 | 第49页 |
| ·温度对 Sb(Ⅲ)、Bi(Ⅲ)与其合金 Bi-Sb 极化曲线的影响 | 第49-50页 |
| ·添加剂对电沉积 Bi-Sb 极化曲线的影响 | 第50-51页 |
| ·pH 调节剂对电沉积 Bi-Sb 极化曲线的影响 | 第51-53页 |
| ·附加盐对电沉积 Bi-Sb 极化曲线的影响 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 5 Bi-Sb 合金的电沉积制备 | 第55-71页 |
| ·沉积条件对沉积膜组成的影响 | 第55-65页 |
| ·温度对沉积膜组成的影响 | 第55-56页 |
| ·溶液 pH 对沉积膜组成的影响 | 第56-57页 |
| ·沉积电势对沉积膜组成的影响 | 第57-59页 |
| ·扫描速率对沉积膜组成的影响 | 第59-60页 |
| ·主盐浓度对对沉积膜组成的影响 | 第60-61页 |
| ·正交实验优化 | 第61-64页 |
| ·掺杂沉积膜组成的影响 | 第64-65页 |
| ·掺杂对沉积膜抗氧化性能的影响 | 第65-67页 |
| ·掺杂对沉积膜形貌及结构的影响 | 第67-69页 |
| ·掺镧和铈对沉积膜表面形貌的影响 | 第67-69页 |
| ·沉积膜的 XRD 分析 | 第69页 |
| ·小结 | 第69-71页 |
| 结论与展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 附录 (攻读学位期间已发和待发的论文) | 第84-85页 |
| 中文详细摘要 | 第85-88页 |
| 英文详细摘要 | 第88-91页 |
