| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-16页 |
| ·等离子体和等离子体光谱测量 | 第10页 |
| ·ECR微波放电和ECR等离子体 | 第10-12页 |
| ·脉冲激光烧蚀和脉冲激光烧蚀等离子体 | 第12-14页 |
| ·脉冲激光烧蚀的研究背景 | 第12页 |
| ·脉冲激光烧蚀和脉冲激光烧蚀等离子体简介 | 第12-14页 |
| ·ECR等离子体辅助脉冲激光沉积技术简介 | 第14-15页 |
| ·本文研究内容和结构 | 第15-16页 |
| 第二章 实验装置 | 第16-21页 |
| ·ECR微波放电和脉冲激光烧蚀装置 | 第16-19页 |
| ·ECR微波放电装置 | 第16-17页 |
| ·脉冲激光烧蚀装置 | 第17-18页 |
| ·ECR等离子体辅助脉冲激光沉积装置 | 第18-19页 |
| ·时空分辨光谱测量装置 | 第19-21页 |
| 第三章 ECR氮等离子体与脉冲激光烧蚀铝等离子体的混合光谱 | 第21-61页 |
| ·ECR放电氮等离子体光谱和脉冲激光烧蚀铝等离子体光谱 | 第21-28页 |
| ·ECR放电氮等离子体光谱 | 第21-24页 |
| ·脉冲激光烧蚀铝等离子体光谱 | 第24-28页 |
| ·PLA AL等离子体对ECR氮等离子体影响的时间积分特性 | 第28-34页 |
| ·Al plume对ECR氮等离子体光谱强度的影响 | 第28-30页 |
| ·不同位置ECR氮等离子体光谱激发增强的比较 | 第30-31页 |
| ·PLA Al等离子体对不同背景气氛的增强效果的比较 | 第31-32页 |
| ·激光能量对增强效果的影响 | 第32-34页 |
| ·PLA AL等离子体对ECR氮等离子体影响的时间分辨特性 | 第34-38页 |
| ·Al plume对ECR氮等离子体影响的时间分辨特性 | 第34页 |
| ·不同气氛的比较 | 第34-35页 |
| ·不同位置的比较 | 第35-38页 |
| ·N_2和ECR N_2背景气氛对AL等离子体的影响 | 第38-49页 |
| ·不同气氛不同位置下的PLA Al等离子体的时间积分光谱 | 第38-41页 |
| ·不同气氛不同位置下的PLA Al等离子体的时间分辨光谱 | 第41-47页 |
| ·Al原子在不同气氛下时间分辨特性的比较 | 第41-45页 |
| ·Al离子在不同气氛下时间分辨特性的比较 | 第45-47页 |
| ·不同激光能量密度的比较 | 第47-49页 |
| ·PLA AL等离子体和ECR氮等离子体相互作用的讨论 | 第49-54页 |
| ·氩气及氩气ECR放电气氛与氮气及氮气ECR放电气氛的比较 | 第54-58页 |
| ·讨论与小结 | 第58-61页 |
| 第四章 PLD-ECR技术制备BCN薄膜过程的光谱诊断 | 第61-70页 |
| ·BCN薄膜的研究背景 | 第61页 |
| ·不同背景气氛下的PLA碳硼等离子体光谱 | 第61-65页 |
| ·真空中PLA碳硼等离子体光谱 | 第61-63页 |
| ·不同气氛下的PLA碳硼等离子体光谱 | 第63-64页 |
| ·不同位置下的PLA碳硼等离子体光谱 | 第64-65页 |
| ·PLA碳硼等离子体对背景气氛的激发作用 | 第65-68页 |
| ·PLA碳硼等离子体对ECR氮等离子体的激发增强 | 第65-66页 |
| ·PLA碳硼等离子体对背景气氛激发作用的时间特性 | 第66-68页 |
| ·气相CN分子的形成 | 第68-69页 |
| ·讨论与小结 | 第69-70页 |
| 第五章 总结和展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 后记 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
