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SiC材料P型掺杂的第一性原理研究

摘要第1-6页
Abstract第6-14页
第一章 绪论第14-20页
   ·SiC材料物理特性及研究意义第14-16页
     ·SiC的物理特性第14-15页
     ·SiC的相关应用第15-16页
   ·SiC材料的应用第16-17页
   ·国内外研究现状第17-19页
     ·实验研究现状第17-18页
     ·理论研究现状第18-19页
   ·本文的主要内容第19-20页
     ·本文的研究意义第19页
     ·本文研究内容第19-20页
第二章 第一性原理及VASP软件介绍第20-35页
   ·引言第20-21页
   ·Born-Oppenheimer近似第21页
   ·Harteree-Fock近似第21-23页
     ·Hartree方程第21-22页
     ·Harteree-Fock方程第22-23页
   ·密度泛函理论第23-30页
     ·Hohenberg-Kohn定理第25-26页
     ·Kohn-Sham方程第26-27页
     ·局域密度泛函近似(LDA)第27页
     ·广义梯度近似(GGA)第27-29页
     ·布洛赫定理第29-30页
   ·赝势方法第30-32页
     ·模守恒赝势第30-31页
     ·超软赝势第31-32页
   ·第一性原理软件VASP介绍第32-34页
   ·本章小结第34-35页
第三章 本征SiC几何结构及电子结构计算第35-41页
   ·引言第35页
   ·理论模型及计算方法第35-36页
     ·理论模型第35-36页
     ·计算方法第36页
   ·计算结果及讨论第36-38页
     ·晶体结构计算结果第36页
     ·能带结构第36-38页
     ·电子态密度分析第38页
   ·4H SiC计算讨论第38-40页
   ·本章小结第40-41页
第四章 SiC材料P型掺杂的电子结构计算讨论第41-53页
   ·引言第41页
   ·计算方法及细节第41-42页
     ·计算方法第41-42页
     ·计算细节第42页
   ·计算结果及讨论第42-52页
     ·结构优化第42页
     ·掺杂形成能第42-43页
     ·能带结构分析第43-46页
     ·电子态密度分析第46-52页
   ·结论第52-53页
第五章 SiC材料的磁性性能计算第53-60页
   ·引言第53-54页
     ·研究背景及意义第53页
     ·SiC基稀磁半导体的研究进展第53-54页
     ·本文的研究意义第54页
   ·计算方法及细节第54-56页
     ·计算模型第54-55页
     ·计算细节第55-56页
   ·SiC材料磁学性能的计算结果讨论第56-59页
     ·晶体结构计算结果第56-57页
     ·Si_(1-x)V_xC,Si_(1-x)Cr_xC, Si_(1-x)Mn_xC的掺杂形成能比较第57-58页
     ·Si_(1-x)V_xC,Si_(1-x)Cr_xC, Si_(1-x)Mn_xC掺杂的磁性比较第58-59页
   ·本章小结第59-60页
参考文献第60-63页
致谢第63-64页
发表论文第64-65页
作者简介第65页
导师简介第65页

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