| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-13页 |
| 第一章绪论 | 第13-27页 |
| 1.1研究背景 | 第13页 |
| 1.2传统半导体光催化技术 | 第13-18页 |
| 1.2.1传统半导体光催化技术简介 | 第13-14页 |
| 1.2.2传统半导体光催化基本原理 | 第14-15页 |
| 1.2.3光催化活性影响因素 | 第15-18页 |
| 1.3光催化剂研究现状 | 第18-21页 |
| 1.3.1传统光催化剂的改性 | 第18-20页 |
| 1.3.2新型催化剂 | 第20-21页 |
| 1.4卤化钙钛矿材料 | 第21-25页 |
| 1.4.1卤化钙钛矿的概述 | 第21-22页 |
| 1.4.2卤化钙钛矿的研究进展 | 第22页 |
| 1.4.3卤化钙钛矿的合成 | 第22-23页 |
| 1.4.4钙钛矿型光催化剂的改性 | 第23-25页 |
| 1.5选题目的及研究内容 | 第25-27页 |
| 1.5.1选题目的 | 第25页 |
| 1.5.2研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章材料与方法 | 第27-32页 |
| 2.1实验试剂与实验仪器 | 第27-28页 |
| 2.1.1主要实验试剂 | 第27-28页 |
| 2.1.2主要实验仪器 | 第28页 |
| 2.2光催化材料的表征 | 第28-30页 |
| 2.2.1扫描电镜分析（SEM） | 第28-29页 |
| 2.2.2X射线衍射分析（XRD） | 第29页 |
| 2.2.3能量色散-X射线光谱分析（EDS） | 第29页 |
| 2.2.4光致发光光谱分析（PL光谱） | 第29页 |
| 2.2.5粒径分析 | 第29-30页 |
| 2.3光催化性能评价 | 第30-31页 |
| 2.3.1光催化反应设备 | 第30页 |
| 2.3.2可见光催化降解实验 | 第30-31页 |
| 2.4光催化机理分析 | 第31-32页 |
| 第三章Au-CsPbBr3@GO复合光催化剂的制备及其可见光催化性能探究 | 第32-46页 |
| 3.1前言 | 第32-33页 |
| 3.2Au-CsPbBr3@GO复合光催化剂的制备 | 第33-35页 |
| 3.2.1CsPbBr3的制备 | 第33页 |
| 3.2.2氧化石墨烯（GO）的制备 | 第33-34页 |
| 3.2.3CsPbBr3@GO的制备 | 第34页 |
| 3.2.4Au-CsPbBr3@GO的制备 | 第34-35页 |
| 3.3结果与讨论 | 第35-44页 |
| 3.3.1X射线衍射（XRD）分析 | 第35-36页 |
| 3.3.2扫描电镜（SEM）及能谱（EDS）分析 | 第36-38页 |
| 3.3.3光致发光光谱（PL光谱）分析 | 第38-39页 |
| 3.3.4激光粒径分布分析 | 第39-40页 |
| 3.3.5光催化活性评价 | 第40-41页 |
| 3.3.6光催化机理的探讨 | 第41-42页 |
| 3.3.7光催化机理模型探讨 | 第42-43页 |
| 3.3.8光催化剂稳定性分析 | 第43-44页 |
| 3.4本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章SiO2/CsPbBr3复合光催化剂的制备及可见光催化性能研究 | 第46-58页 |
| 4.1前言 | 第46-47页 |
| 4.2SiO2/CsPbBr3复合光催化剂的制备 | 第47-48页 |
| 4.2.1CsPbBr3钙钛矿纳米晶的制备 | 第47页 |
| 4.2.2SiO2/CsPbBr3复合光催化剂的合成 | 第47-48页 |
| 4.3结果与讨论 | 第48-56页 |
| 4.3.1X射线衍射（XRD）分析 | 第48-49页 |
| 4.3.2扫描电镜（SEM）及能谱（EDS）分析 | 第49-50页 |
| 4.3.3光致发光光谱（PL光谱）分析 | 第50-51页 |
| 4.3.4激光粒径分布分析 | 第51-52页 |
| 4.3.5光催化活性评价 | 第52-54页 |
| 4.3.6光催化机理的探讨 | 第54页 |
| 4.3.7光催化机理模型探讨 | 第54-55页 |
| 4.3.8稳定性重复实验 | 第55-56页 |
| 4.4本章小结 | 第56-58页 |
| 结论与展望 | 第58-60页 |
| 结论 | 第58页 |
| 展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-68页 |
| 攻读博士/硕士学位期间取得的研究成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 附件 | 第70页 |
