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闭合场非平衡脉冲磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜结构与性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-12页
第一章 引言第12-39页
   ·碳氮化铬薄膜第12-22页
     ·氮化铬和碳化铬薄膜第12-18页
     ·碳氮化合物薄膜中碳氮的复合作用第18-19页
     ·碳氮化铬薄膜的研究现状第19-22页
   ·纳米晶/非晶复合薄膜的特性第22-25页
     ·纳米晶/非晶复合薄膜硬化机理第22-24页
     ·纳米晶碳化物/非晶碳(氢)复合薄膜第24-25页
   ·非平衡脉冲直流磁控溅射沉积薄膜第25-33页
     ·非平衡磁控溅射沉积第25-28页
     ·脉冲直流磁控溅射沉积第28-33页
   ·高功率脉冲磁控溅射技术及应用第33-37页
     ·高功率脉冲磁控溅射技术原理第33-36页
     ·高功率脉冲磁控溅射技术应用第36-37页
   ·研究目的第37页
   ·研究内容第37-39页
第二章 碳氮化铬薄膜的沉积装置、工艺与表征方法第39-50页
   ·闭合场非平衡脉冲磁控溅射装置第39-45页
     ·闭合场非平衡磁控溅射靶第39-41页
     ·磁控溅射电源和直流偏压电源第41页
     ·基片材料第41页
     ·薄膜沉积工艺与参数第41-45页
   ·碳氮化铬薄膜成分与结构表征方法第45-46页
   ·碳氮化铬薄膜性能表征方法第46-48页
     ·纳米压痕测试方法第46-47页
     ·摩擦学性能表征方法第47页
     ·膜基结合性能测试方法第47-48页
   ·等离子体质量和能量分析仪第48-50页
第三章 闭合场非平衡脉冲直流磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜的成分与结构第50-90页
   ·闭合场非平衡脉冲直流磁控溅射的等离子体特性第50-59页
     ·脉冲直流氩气磁控溅射铬和碳时的离子能量分布第50-55页
     ·脉冲直流氮氩混合气反应磁控溅射铬和碳时的离子能量分布第55-59页
   ·碳氮化铬薄膜成分第59-66页
     ·电子探针分析第59-64页
     ·X射线光电子能谱分析第64-66页
   ·碳氮化铬薄膜X射线衍射分析第66-71页
   ·碳氮化铬薄膜微结构第71-85页
     ·横截面扫描电子显微分析第71-76页
     ·横截面透射电子显微分析第76-85页
   ·讨论第85-88页
     ·工艺参数对碳氮化铬薄膜成分与结构的影响第85-87页
     ·碳氮化铬薄膜中的碳氮复合作用第87-88页
   ·结论第88-90页
第四章 闭合场非平衡脉冲直流磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜的性能第90-113页
   ·碳氮化铬薄膜的力学性能第90-94页
   ·碳氮化铬薄膜的膜基结合性能第94-100页
   ·碳氮化铬薄膜的摩擦学性能第100-110页
     ·碳氮化铬薄膜的摩擦系数与磨损量第100-105页
     ·碳氮化铬薄膜的磨痕形貌第105-110页
   ·讨论第110-112页
     ·碳氮复合对薄膜力学和摩擦学性能的影响第110-111页
     ·闭合场非平衡脉冲直流磁控溅射沉积薄膜特性第111-112页
   ·结论第112-113页
第五章 闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜第113-138页
   ·闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射技术特性第113-122页
     ·闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射靶工作特性第113-117页
     ·闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射等离子体特性第117-122页
   ·高功率调制脉冲磁控溅射沉积金属铬和氮化铬薄膜的结构与性能第122-129页
     ·高功率调制脉冲磁控溅射沉积金属铬薄膜第122-126页
     ·高功率调制脉冲磁控溅射沉积氮化铬薄膜第126-129页
   ·高功率调制脉冲磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜的成分、结构与性能第129-134页
     ·碳氮化铬薄膜的成分与结构第129-131页
     ·碳氮化铬薄膜的力学和摩擦学性能第131-134页
   ·讨论第134-136页
     ·闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射机制第134-135页
     ·闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射沉积薄膜的特点第135-136页
   ·结论第136-138页
第六章 总结论第138-140页
参考文献第140-150页
攻读博士学位期间发表学术论文情况第150-152页
致谢第152-155页

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