摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第一章 引言 | 第12-39页 |
·碳氮化铬薄膜 | 第12-22页 |
·氮化铬和碳化铬薄膜 | 第12-18页 |
·碳氮化合物薄膜中碳氮的复合作用 | 第18-19页 |
·碳氮化铬薄膜的研究现状 | 第19-22页 |
·纳米晶/非晶复合薄膜的特性 | 第22-25页 |
·纳米晶/非晶复合薄膜硬化机理 | 第22-24页 |
·纳米晶碳化物/非晶碳(氢)复合薄膜 | 第24-25页 |
·非平衡脉冲直流磁控溅射沉积薄膜 | 第25-33页 |
·非平衡磁控溅射沉积 | 第25-28页 |
·脉冲直流磁控溅射沉积 | 第28-33页 |
·高功率脉冲磁控溅射技术及应用 | 第33-37页 |
·高功率脉冲磁控溅射技术原理 | 第33-36页 |
·高功率脉冲磁控溅射技术应用 | 第36-37页 |
·研究目的 | 第37页 |
·研究内容 | 第37-39页 |
第二章 碳氮化铬薄膜的沉积装置、工艺与表征方法 | 第39-50页 |
·闭合场非平衡脉冲磁控溅射装置 | 第39-45页 |
·闭合场非平衡磁控溅射靶 | 第39-41页 |
·磁控溅射电源和直流偏压电源 | 第41页 |
·基片材料 | 第41页 |
·薄膜沉积工艺与参数 | 第41-45页 |
·碳氮化铬薄膜成分与结构表征方法 | 第45-46页 |
·碳氮化铬薄膜性能表征方法 | 第46-48页 |
·纳米压痕测试方法 | 第46-47页 |
·摩擦学性能表征方法 | 第47页 |
·膜基结合性能测试方法 | 第47-48页 |
·等离子体质量和能量分析仪 | 第48-50页 |
第三章 闭合场非平衡脉冲直流磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜的成分与结构 | 第50-90页 |
·闭合场非平衡脉冲直流磁控溅射的等离子体特性 | 第50-59页 |
·脉冲直流氩气磁控溅射铬和碳时的离子能量分布 | 第50-55页 |
·脉冲直流氮氩混合气反应磁控溅射铬和碳时的离子能量分布 | 第55-59页 |
·碳氮化铬薄膜成分 | 第59-66页 |
·电子探针分析 | 第59-64页 |
·X射线光电子能谱分析 | 第64-66页 |
·碳氮化铬薄膜X射线衍射分析 | 第66-71页 |
·碳氮化铬薄膜微结构 | 第71-85页 |
·横截面扫描电子显微分析 | 第71-76页 |
·横截面透射电子显微分析 | 第76-85页 |
·讨论 | 第85-88页 |
·工艺参数对碳氮化铬薄膜成分与结构的影响 | 第85-87页 |
·碳氮化铬薄膜中的碳氮复合作用 | 第87-88页 |
·结论 | 第88-90页 |
第四章 闭合场非平衡脉冲直流磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜的性能 | 第90-113页 |
·碳氮化铬薄膜的力学性能 | 第90-94页 |
·碳氮化铬薄膜的膜基结合性能 | 第94-100页 |
·碳氮化铬薄膜的摩擦学性能 | 第100-110页 |
·碳氮化铬薄膜的摩擦系数与磨损量 | 第100-105页 |
·碳氮化铬薄膜的磨痕形貌 | 第105-110页 |
·讨论 | 第110-112页 |
·碳氮复合对薄膜力学和摩擦学性能的影响 | 第110-111页 |
·闭合场非平衡脉冲直流磁控溅射沉积薄膜特性 | 第111-112页 |
·结论 | 第112-113页 |
第五章 闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜 | 第113-138页 |
·闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射技术特性 | 第113-122页 |
·闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射靶工作特性 | 第113-117页 |
·闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射等离子体特性 | 第117-122页 |
·高功率调制脉冲磁控溅射沉积金属铬和氮化铬薄膜的结构与性能 | 第122-129页 |
·高功率调制脉冲磁控溅射沉积金属铬薄膜 | 第122-126页 |
·高功率调制脉冲磁控溅射沉积氮化铬薄膜 | 第126-129页 |
·高功率调制脉冲磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜的成分、结构与性能 | 第129-134页 |
·碳氮化铬薄膜的成分与结构 | 第129-131页 |
·碳氮化铬薄膜的力学和摩擦学性能 | 第131-134页 |
·讨论 | 第134-136页 |
·闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射机制 | 第134-135页 |
·闭合场非平衡高功率调制脉冲磁控溅射沉积薄膜的特点 | 第135-136页 |
·结论 | 第136-138页 |
第六章 总结论 | 第138-140页 |
参考文献 | 第140-150页 |
攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第150-152页 |
致谢 | 第152-155页 |