| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-28页 |
| 1.1 电荷转移共晶简介 | 第9-10页 |
| 1.2 电荷转移共晶的制备方法 | 第10-14页 |
| 1.2.1 溶液法 | 第10-12页 |
| 1.2.2 气相法（Vapor-phase) | 第12-13页 |
| 1.2.3 机械化学法（Mechanochemical） | 第13-14页 |
| 1.3 电荷转移共晶的性质 | 第14-19页 |
| 1.3.1 电导性 | 第14-15页 |
| 1.3.2 电传输性 | 第15-16页 |
| 1.3.3 铁电性 | 第16页 |
| 1.3.4 光伏效应 | 第16-18页 |
| 1.3.5 光学性能 | 第18-19页 |
| 1.4 电荷转移共晶的表征方法 | 第19-26页 |
| 1.4.1 单晶X射线衍射（SCXRD） | 第19-20页 |
| 1.4.2 粉末X射线衍射（PXRD） | 第20-21页 |
| 1.4.3 红外（FT-IR） | 第21-22页 |
| 1.4.4 固体紫外（UV-Vis） | 第22-23页 |
| 1.4.5 热分析（TGA/DSC） | 第23-25页 |
| 1.4.6 核磁共振（NMR） | 第25-26页 |
| 1.5 本文的研究思想及内容 | 第26-28页 |
| 第二章 查尔酮与TCNB共晶的制备及性能表征 | 第28-57页 |
| 2.1 引言 | 第28-29页 |
| 2.2 实验仪器及试剂 | 第29-30页 |
| 2.3 供受体的合成及电荷转移共晶的制备 | 第30-37页 |
| 2.3.1 1,2,4,5-四氰基苯（TCNB）的合成 | 第30-31页 |
| 2.3.2 三种查尔酮供体的合成 | 第31-34页 |
| 2.3.3 电荷转移共晶的制备 | 第34-37页 |
| 2.4 电荷转移共晶的表征 | 第37-46页 |
| 2.4.1 粉末X射线衍射分析 | 第37-40页 |
| 2.4.2 红外光谱 | 第40-42页 |
| 2.4.3 固体紫外 | 第42-44页 |
| 2.4.4 固态荧光光谱 | 第44-46页 |
| 2.5 共晶结构分析及Hirshfeld表面分析 | 第46-56页 |
| 2.5.1 晶体结构数据与分析 | 第46-52页 |
| 2.5.2 共晶的Hirshfeld表面分析 | 第52-56页 |
| 2.6 本章小结 | 第56-57页 |
| 第三章 固体羧酸共晶的制备及性能研究 | 第57-71页 |
| 3.1 引言 | 第57页 |
| 3.2 实验仪器及试剂 | 第57-58页 |
| 3.3 固体羧酸电荷转移共晶的制备 | 第58-59页 |
| 3.3.1 共晶Ⅳ（香草酸-TCNB共晶）的制备 | 第58页 |
| 3.3.2 共晶Ⅴ（对氨基苯甲酸-TCNQ共晶）的制备 | 第58-59页 |
| 3.4 电荷转移共晶的表征 | 第59-65页 |
| 3.4.1 粉末X射线衍射分析 | 第59-61页 |
| 3.4.2 红外光谱 | 第61-63页 |
| 3.4.3 固体紫外 | 第63-65页 |
| 3.5 共晶结构分析及Hirshfeld表面分析 | 第65-69页 |
| 3.5.1 晶体结构数据与分析 | 第65-68页 |
| 3.5.2 共晶的Hirshfeld表面分析 | 第68-69页 |
| 3.6 本章小结 | 第69-71页 |
| 第四章 总结与展望 | 第71-72页 |
| 硕士期间研究成果 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |