| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 我国水污染现状 | 第9页 |
| 1.3 有机污染物来源及危害 | 第9-11页 |
| 1.4 水处理技术 | 第11-13页 |
| 1.4.1 相转移类技术 | 第11-13页 |
| 1.4.2 生化法 | 第13页 |
| 1.4.3 高级氧化技术 | 第13页 |
| 1.5 半导体光催化技术 | 第13-21页 |
| 1.5.1 半导体光催化原理 | 第14-15页 |
| 1.5.2 影响光催化活性的因素 | 第15-20页 |
| 1.5.3 光催化技术研究进展 | 第20-21页 |
| 1.6 催化臭氧氧化技术 | 第21页 |
| 1.7 臭氧光催化技术 | 第21-22页 |
| 1.8 论文课题来源、立题思路及内容 | 第22-25页 |
| 第2章 实验部分 | 第25-35页 |
| 2.1 主要化学试剂及实验设备 | 第25-27页 |
| 2.1.1 主要化学试剂 | 第25-26页 |
| 2.1.2 主要实验设备与仪器 | 第26-27页 |
| 2.2 催化剂制备方法 | 第27-28页 |
| 2.2.1 不同主要晶面暴露的WO_3晶体 | 第27-28页 |
| 2.2.2 树枝状BiVO_4及氧化锰修饰的树枝状BiVO | 第28页 |
| 2.3 材料表征 | 第28-30页 |
| 2.3.1 晶体结构测定 | 第28页 |
| 2.3.2 比表面积和孔结构测定 | 第28页 |
| 2.3.3 形貌表征 | 第28-29页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱 | 第29页 |
| 2.3.5 紫外可见光漫反射光谱 | 第29页 |
| 2.3.6 荧光光谱 | 第29页 |
| 2.3.7 电子顺磁共振谱 | 第29-30页 |
| 2.3.8 电化学测试 | 第30页 |
| 2.4 催化剂活性评价 | 第30-35页 |
| 2.4.1 污染物选择 | 第31页 |
| 2.4.2 臭氧氧化及臭氧催化氧化 | 第31页 |
| 2.4.3 可见光催化降解污染物 | 第31页 |
| 2.4.4 臭氧光催化降解污染物 | 第31页 |
| 2.4.5 样品分析及检测方法 | 第31-35页 |
| 第3章 能带结构对三氧化钨臭氧光催化性能的影响 | 第35-45页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 催化剂表征 | 第35-41页 |
| 3.2.1 结构分析 | 第35-37页 |
| 3.2.2 形貌分析 | 第37-39页 |
| 3.2.3 光学性能分析 | 第39-40页 |
| 3.2.4 电化学性能分析 | 第40-41页 |
| 3.3 WO_3 催化降解污染物的性能 | 第41-43页 |
| 3.4 能带结构影响 | 第43-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 三氧化钨臭氧光催化降解污染物机理研究 | 第45-57页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 自由基反应路径实验验证 | 第45-48页 |
| 4.3 臭氧的重要影响 | 第48-49页 |
| 4.4 pH值对于自由基反应的影响 | 第49-53页 |
| 4.5 H_2O_2、SO_4~(2-)和NO_3~-的生成量监测 | 第53-54页 |
| 4.6 不同处理组合的探索 | 第54-56页 |
| 4.7 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 氧化锰修饰增强树枝状钒酸铋臭氧光催化活性 | 第57-67页 |
| 5.1 引言 | 第57页 |
| 5.2 氧化锰负载量优化 | 第57-58页 |
| 5.3 催化剂表征 | 第58-61页 |
| 5.3.1 晶体结构确定 | 第58-59页 |
| 5.3.2 形貌表征 | 第59-60页 |
| 5.3.3 光学性能表征 | 第60-61页 |
| 5.4 催化降解性能评价 | 第61-62页 |
| 5.5 催化机理讨论 | 第62-64页 |
| 5.6 本章小结 | 第64-67页 |
| 第6章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 6.1 结论 | 第67-68页 |
| 6.2 展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77页 |