摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
图表索引 | 第9-12页 |
符号索引 | 第12-13页 |
第一章 绪论 | 第13-28页 |
·课题背景 | 第13-15页 |
·表面织构加工技术的发展现状 | 第15-20页 |
·振动加工 | 第16页 |
·激光珩磨技术 | 第16-17页 |
·微研磨方法 | 第17页 |
·压刻技术 | 第17页 |
·超声波加工 | 第17-18页 |
·电火花加工 | 第18-19页 |
·电子束加工 | 第19-20页 |
·电解加工方法 | 第20-25页 |
·管电极电解加工 | 第20-21页 |
·电液束加工 | 第21-22页 |
·棒状微细电极加工 | 第22页 |
·辅助阳极电解加工 | 第22-23页 |
·掩模电解加工 | 第23-25页 |
·课题研究意义及主要内容 | 第25-28页 |
·课题研究意义 | 第25-27页 |
·本课题研究的主要内容 | 第27-28页 |
第二章 微细电解加工理论 | 第28-34页 |
·电解加工基本原理和特点 | 第28-30页 |
·电解加工基本原理 | 第28-29页 |
·电解加工的特点 | 第29页 |
·法拉第定律 | 第29-30页 |
·电解加工基本理论 | 第30-34页 |
·电解加工间隙的电场特性 | 第30-31页 |
·电极/溶液界面双电层 | 第31-32页 |
·电极电位和电极反应的顺序 | 第32页 |
·阳极极化 | 第32-34页 |
第三章 曲面摩擦副活塞表面掩模微细电解加工 | 第34-51页 |
·曲面摩擦副微细掩模电解加工技术的基本原理 | 第34页 |
·曲面摩擦副微细掩模电解加工的ANSYS 电场分析 | 第34-36页 |
·曲面摩擦副表面掩模电解加工实验系统的建立 | 第36-39页 |
·电解加工机床 | 第36页 |
·电解液 | 第36-37页 |
·电解液循环系统 | 第37-38页 |
·电解加工电源 | 第38-39页 |
·测量设备 | 第39页 |
·曲面摩擦副表面掩模电解加工夹具设计 | 第39-40页 |
·曲面摩擦副表面掩模电解加工的阴极制备及阳极工件的选择 | 第40-42页 |
·曲面摩擦副表面掩模电解加工的阴极制备 | 第40-41页 |
·曲面摩擦副表面掩模电解加工阳极工件的选择 | 第41-42页 |
·曲面摩擦副表面阴极掩模电解加工试验结果分析 | 第42-45页 |
·试验结果分析 | 第42-43页 |
·绝缘层厚度对微坑形貌的影响 | 第43-44页 |
·电流密度对微坑形貌的影响 | 第44-45页 |
·阴极掩模电解试验结果 | 第45-47页 |
·摩擦实验 | 第47-48页 |
·阴极掩模电解加工微小坑的应用 | 第48-50页 |
·阴极掩模加工活塞表面微小凹坑阵列的夹具设计 | 第48-49页 |
·阴极掩模加工活塞表面微小凹坑阵列的试验结果 | 第49-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
第四章 微小凹坑阵列的电解转印法的试验研究 | 第51-72页 |
·LIGA 和 LIGA-like 技术 | 第51-52页 |
·电解转印法的基本原理 | 第52-53页 |
·电解转印法 | 第52页 |
·电解转印法的基本原理 | 第52-53页 |
·电解转印法加工微小凹坑阵列的ANSYS 电场分析 | 第53-55页 |
·掩模阴极的制备 | 第55-65页 |
·SU-8 光刻胶 | 第55-56页 |
·掩膜阴极基片的制备 | 第56-65页 |
·电解转印法加工凹坑阵列试验系统 | 第65-66页 |
·实验系统图 | 第65页 |
·夹具的设计 | 第65-66页 |
·电解转印加工微坑阵列试验及分析 | 第66-71页 |
·阴极胶膜厚度对加工结果的影响 | 第66-67页 |
·不同加工间隙与微坑形貌的关系 | 第67-69页 |
·电流密度与微坑形貌的关系 | 第69-70页 |
·试验结果 | 第70-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
第五章 总结与展望 | 第72-74页 |
·本文的主要结论 | 第72页 |
·对本文课题研究的展望 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
攻读学位期间的研究成果及发表的学术论文 | 第78页 |