| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 课题背景及研究目的及意义 | 第11-12页 |
| 1.1.1 课题研究背景 | 第11页 |
| 1.1.2 课题的研究意义 | 第11-12页 |
| 1.2 金属材料3D打印技术研究现状 | 第12-17页 |
| 1.2.1 电子束增材制造发展历程及研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2.2 电弧增材制造的发展历程及研究现状 | 第14-16页 |
| 1.2.3 电弧增材制造的关键技术 | 第16-17页 |
| 1.3 钛合金3D打印技术研究现状 | 第17-20页 |
| 1.3.1 钛合金的种类及焊接性 | 第17-18页 |
| 1.3.2 钛合金快速成型组织及性能 | 第18-20页 |
| 1.4 贝壳复合结构及“仿生贝壳”在军工领域的应用 | 第20-21页 |
| 1.5 本课题主要研究内容 | 第21-22页 |
| 2 实验条件及方法 | 第22-29页 |
| 2.1 实验材料 | 第22页 |
| 2.2 实验设备 | 第22-23页 |
| 2.2.1 等离子成型设备 | 第22-23页 |
| 2.2.2 电子束成型设备 | 第23页 |
| 2.3 力学性能测试方法及设备 | 第23-25页 |
| 2.3.1 室温拉伸性能 | 第23-24页 |
| 2.3.2 室温冲击韧性 | 第24页 |
| 2.3.3 显微硬度测试 | 第24-25页 |
| 2.4 微观组织观察方法及设备 | 第25-26页 |
| 2.4.1 显微组织观察 | 第25页 |
| 2.4.2 断口扫描电镜观察 | 第25-26页 |
| 2.5 实验方案 | 第26-28页 |
| 2.5.1 等离子增材制造实验方案 | 第26-27页 |
| 2.5.2 电子束增材制造实验方案 | 第27-28页 |
| 2.6 实验流程图 | 第28-29页 |
| 3 等离子弧增材制造的工艺研究 | 第29-45页 |
| 3.1 单道单层等离子弧工艺研究 | 第29-30页 |
| 3.2 单道单层沉积轨迹断面分析 | 第30-31页 |
| 3.3 工艺参数对单道薄壁试样成型的影响 | 第31-33页 |
| 3.4 单道薄壁试样的宏观特征 | 第33-34页 |
| 3.5 单道薄壁的显微金相组织演变 | 第34-39页 |
| 3.5.1 热影响区 | 第34-35页 |
| 3.5.2 均匀组织区 | 第35-37页 |
| 3.5.3 梯度循环组织区 | 第37-38页 |
| 3.5.4 单道多层沉积显微组织的演化 | 第38-39页 |
| 3.6 显微硬度分析 | 第39-40页 |
| 3.7 抗拉强度分析 | 第40页 |
| 3.8 单层多沉积道间搭接率的试验 | 第40-43页 |
| 3.9 多层多道沉积的宏观组织演变过程 | 第43-44页 |
| 3.10 本章小结 | 第44-45页 |
| 4 不同沉积路径增材制造的工艺研究 | 第45-65页 |
| 4.1 工艺参数试验 | 第45-47页 |
| 4.2 沉积态组织特征及力学性能 | 第47-63页 |
| 4.2.1 金相组织分析 | 第47-48页 |
| 4.2.2 显微硬度分析 | 第48-51页 |
| 4.2.3 拉伸性能分析 | 第51-55页 |
| 4.2.4 拉伸断口分析 | 第55-56页 |
| 4.2.5 冲击韧性分析 | 第56-59页 |
| 4.2.6 冲击断口分析 | 第59-63页 |
| 4.3 本章小结 | 第63-65页 |
| 5 电子束增材制造的工艺研究 | 第65-72页 |
| 5.1 单层单道电子束增材制造工艺参数试验 | 第65-66页 |
| 5.2 单道薄壁宏观形貌 | 第66-67页 |
| 5.3 显微硬度分析 | 第67-68页 |
| 5.4 电子束增材制造块体的力学性能 | 第68-71页 |
| 5.4.1 拉伸性能分析 | 第68-69页 |
| 5.4.2 冲击韧性分析 | 第69-70页 |
| 5.4.3 冲击断口分析 | 第70-71页 |
| 5.5 本章小结 | 第71-72页 |
| 6 结论 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 附录 | 第79-80页 |