| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第15-39页 |
| 1.1 垂直腔面发射激光器(verticalcavitysurfaceemittinglaserVCSEL)简介 | 第15-31页 |
| 1.1.1 垂直腔面发射激光器(VCSEL)基本结构 | 第15-16页 |
| 1.1.2 VCSEL的基本分类 | 第16-21页 |
| 1.1.3 VCSEL的发展历史简介 | 第21-31页 |
| 1.2 表面集成微透镜VCSEL研究背景 | 第31-36页 |
| 1.3 本论文的研究工作 | 第36-39页 |
| 第二章 微光学元件集成垂直腔面发射激光器基本原理 | 第39-53页 |
| 2.1 垂直腔面发射激光器基本结构叙述 | 第39-40页 |
| 2.2 VCSEL特性 | 第40-51页 |
| 2.2.1 阈值特性(Thresholdcurrent) | 第40-41页 |
| 2.2.2 阈值增益 | 第41-42页 |
| 2.2.3 VCSEL输出功率与转换效率 | 第42-43页 |
| 2.2.4 DBR反射镜设计 | 第43-48页 |
| 2.2.5 VCSEL模式特性 | 第48-49页 |
| 2.2.6 光束质量因子M~2 | 第49-51页 |
| 2.3 本章小结 | 第51-53页 |
| 第三章 微透镜集成垂直腔面发射激光器制备工艺研究 | 第53-75页 |
| 3.1 微透镜制备技术简介 | 第53-58页 |
| 3.1.1 热回流/光刻胶熔融法制备微透镜 | 第53-55页 |
| 3.1.2 ICP/RIE刻蚀图形转移法制备微透镜 | 第55-56页 |
| 3.1.3 激光直写微透镜制备技术 | 第56-57页 |
| 3.1.4 PECVD/磁控溅射沉积制备技术 | 第57-58页 |
| 3.2 扩散限制湿法化学刻蚀法 | 第58-66页 |
| 3.2.1 本论文中微透镜制备方案 | 第59-62页 |
| 3.2.2 微透镜表面形貌测试与分析 | 第62-66页 |
| 3.3 微透镜集成顶发射VCSEL激光器制备工艺流程 | 第66-73页 |
| 3.4 本章小结 | 第73-75页 |
| 第四章 微透镜集成垂直腔面发射激光器测试与分析 | 第75-89页 |
| 4.1 FDTD顶发射微透镜集成VCSEL模拟分析 | 第75-79页 |
| 4.2 微透镜集成VCSEL器件的P-I-V特性曲线 | 第79-80页 |
| 4.3 微透镜集成VCSEL器件的光谱特性分析 | 第80-82页 |
| 4.4 微透镜集成VCSEL器件的远场发散角分析 | 第82-84页 |
| 4.5 微透镜集成VCSEL器件的光束质量因子分析 | 第84-87页 |
| 4.6 本章小结 | 第87-89页 |
| 第五章 高对比度光栅集成多角度光束控制垂直腔面发射激光器. | 第89-105页 |
| 5.1 光束操纵方法介绍 | 第89-92页 |
| 5.2 非周期性HCG集成多角度控制VCSEL阵列模型 | 第92-98页 |
| 5.2.1 多角度非周期性高对比度光栅设计 | 第95-98页 |
| 5.3 非周期性HCG集成多角度控制VCSEL偏转角度 | 第98-100页 |
| 5.4 非周期性HCG集成多角度控制VCSEL偏振分析 | 第100-101页 |
| 5.5 非周期性HCG集成多角度控制VCSEL波长分析 | 第101-103页 |
| 5.6 本章小结 | 第103-105页 |
| 第六章 总结与展望 | 第105-109页 |
| 参考文献 | 第109-117页 |
| 致谢 | 第117-119页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第119-120页 |
