摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 磁介电复合薄膜材料 | 第10页 |
1.2 磁介电复合薄膜材料的发展进程 | 第10-13页 |
1.3 1-3型的磁介电复合薄膜的研究进展及研究意义 | 第13-16页 |
1.3.1 研究进展 | 第13-16页 |
1.3.2 研究意义 | 第16页 |
1.4 磁介电复合薄膜材料的应用 | 第16-17页 |
1.5 本论文的主要内容安排 | 第17-19页 |
第二章 高μ和ε复合材料的理论研究 | 第19-25页 |
2.1 有效介电常数ε_(eff)的计算方法 | 第19-22页 |
2.1.1 Maxwell-Garnett公式及其扩展式 | 第19-20页 |
2.1.2 其他混合方程 | 第20-21页 |
2.1.3 Lichtenecker经典混合方程 | 第21-22页 |
2.1.4 混合方程的应用 | 第22页 |
2.2 有效磁导率μ_(eff)的计算方法 | 第22-23页 |
2.2.1 传统的混合方程 | 第22页 |
2.2.2 Sheng-Cadence方程 | 第22-23页 |
2.3 格林函数法估算复合材料的损耗 | 第23页 |
2.4 具有高ε_(eff)和μ_(eff)的复合材料 | 第23-25页 |
2.4.1 适用的磁介电材料 | 第23-24页 |
2.4.2 数值举例 | 第24-25页 |
第三章 磁介电复合薄膜材料的制备和表征方法及原理 | 第25-32页 |
3.1 制备方法及原理 | 第25-27页 |
3.2 表征方法及原理 | 第27-32页 |
3.2.1 XRD测试(X-Ray Diffraction) | 第27-28页 |
3.2.2 AFM测试(Atomic Force Microscope) | 第28-29页 |
3.2.3 振动样品磁强计(Vibrating Sample Magnetometer) | 第29-30页 |
3.2.4 铁电测试仪 | 第30-31页 |
3.2.5 C-V测试 | 第31-32页 |
第四章 1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的制备及性能研究 | 第32-43页 |
4.1 1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的制备 | 第32-33页 |
4.2 影响1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜结构的因素研究 | 第33-37页 |
4.2.1 基片温度对薄膜结构的影响 | 第33-34页 |
4.2.2 溅射气压对薄膜结构的影响 | 第34-35页 |
4.2.3 溅射功率对薄膜结构的影响 | 第35-36页 |
4.2.4 溅射时间对薄膜结构的影响 | 第36-37页 |
4.3 溅射时间对薄膜铁磁性能的影响 | 第37-38页 |
4.4 1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的形貌研究 | 第38-39页 |
4.5 1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的铁电性研究 | 第39-40页 |
4.6 1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的介电性研究 | 第40-41页 |
4.7 本章总结 | 第41-43页 |
第五章 1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的高温制备及性能研究 | 第43-56页 |
5.1 1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的高温制备 | 第43-44页 |
5.2 溅射时间对薄膜结构的影响 | 第44-47页 |
5.2.1 溅射时间对(001)取向的薄膜结构的影响 | 第44-46页 |
5.2.2 溅射时间对(111)取向的薄膜结构的影响 | 第46-47页 |
5.3 不同基片取向和溅射时间对铁磁性能的影响 | 第47-49页 |
5.4 不同取向的1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的形貌研究 | 第49-50页 |
5.5 不同取向的1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的铁电性研究 | 第50-52页 |
5.5.1 不同基片取向的P-E特性研究 | 第50-51页 |
5.5.2 不同基片取向的Ⅰ-V特性研究 | 第51-52页 |
5.6 不同取向的1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的介电性研究 | 第52-55页 |
5.6.1 (001)取向的1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的介电性研究 | 第52-53页 |
5.6.2 (111)取向的1-3型MZF-PZT磁介电复合薄膜的介电性研究 | 第53-55页 |
5.7 本章总结 | 第55-56页 |
第六章 结论 | 第56-58页 |
6.1 总结 | 第56-57页 |
6.2 展望 | 第57-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-64页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第64页 |