PDP选择性光学薄膜的制备及特性研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 PDP选择性光学薄膜的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.3 本课题的研究意义 | 第13-14页 |
| 1.4 本课题的研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 气体放电理论及PDP光学保护膜结构 | 第16-30页 |
| 2.1 等离子体中的气体放电特性 | 第16-21页 |
| 2.1.1 气体放电过程 | 第16-17页 |
| 2.1.2 汤生气体放电理论 | 第17-19页 |
| 2.1.3 帕邢定律 | 第19-21页 |
| 2.2 PDP的结构及工作原理 | 第21-26页 |
| 2.2.1 PDP的结构 | 第21-24页 |
| 2.2.2 PDP的工作原理 | 第24-26页 |
| 2.3 PDP滤光保护膜结构 | 第26-28页 |
| 2.3.1 电磁波屏蔽层 | 第27页 |
| 2.3.2 近红外阻挡层 | 第27-28页 |
| 2.3.3 氖黄光、防反射阻挡层 | 第28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-30页 |
| 第三章 近红外吸收ITO薄膜制备及工艺研究 | 第30-42页 |
| 3.1 ITO薄膜的结构性质 | 第30-33页 |
| 3.1.1 ITO薄膜的晶体结构 | 第30页 |
| 3.1.2 ITO薄膜的光学性能 | 第30-31页 |
| 3.1.3 ITO薄膜的电学性能 | 第31-33页 |
| 3.2 ITO薄膜制备 | 第33-35页 |
| 3.2.1 磁控溅射法镀膜 | 第33-35页 |
| 3.2.2 基片预处理 | 第35页 |
| 3.3 ITO薄膜制备工艺研究 | 第35-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 纳米LaB_6的分散及稳定性研究 | 第42-58页 |
| 4.1 纳米LaB_6的晶体结构 | 第42-43页 |
| 4.2 纳米LaB_6的分散方法 | 第43-49页 |
| 4.2.1 纳米LaB_6的分散工艺流程 | 第44-45页 |
| 4.2.2 纳米LaB_6的分散工艺参数研究 | 第45-49页 |
| 4.3 纳米LaB_6的分散稳定性研究 | 第49-53页 |
| 4.3.1 纳米LaB_6表面结构形貌及元素组分 | 第50-51页 |
| 4.3.2 自然沉降实验 | 第51-53页 |
| 4.4 表面活性剂分散特性的研究 | 第53-57页 |
| 4.4.1 表面活性剂工作机理 | 第53-54页 |
| 4.4.2 表面活性剂的作用研究 | 第54-57页 |
| 4.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 分散处理后的纳米LaB_6特性研究 | 第58-67页 |
| 5.1 旋涂法制备纳米LaB_6选择性光学薄膜 | 第58-61页 |
| 5.1.1 旋涂法制备PDP光学薄膜 | 第58-59页 |
| 5.1.2 旋涂法制备工艺参数研究 | 第59-61页 |
| 5.2 喷涂法制备纳米LaB_6选择性光学薄膜 | 第61-64页 |
| 5.2.1 喷涂法制备PDP光学薄膜 | 第61-62页 |
| 5.2.2 喷涂法制备工艺参数研究 | 第62-64页 |
| 5.3 两种方法制备光学薄膜特性对比 | 第64-66页 |
| 5.4 本章总结 | 第66-67页 |
| 第六章 结论与展望 | 第67-69页 |
| 6.1 本论文研究工作总结 | 第67-68页 |
| 6.2 实验中存在的不足及进一步研究展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 作者攻硕期间的研究成果 | 第74-75页 |
