摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-27页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 半导体光催化的基本原理 | 第12-14页 |
1.3 半导体光催化材料的研究现状 | 第14-17页 |
1.4 二氧化钛光催化材料的研究进展 | 第17-26页 |
1.4.1 二氧化钛晶相结构 | 第17-18页 |
1.4.2 二氧化钛纳米材料合成方法 | 第18-20页 |
1.4.3 影响二氧化钛光催化活性的因素 | 第20-22页 |
1.4.4 提高二氧化钛光催化活性的方法 | 第22-25页 |
1.4.5 二氧化钛的主要应用 | 第25-26页 |
1.5 本课题的研究思路及主要内容 | 第26-27页 |
第二章 实验部分 | 第27-33页 |
2.1 化学试剂原料及试验仪器 | 第27-29页 |
2.1.1 化学试剂 | 第27-28页 |
2.1.2 实验仪器 | 第28-29页 |
2.2 催化剂的制备 | 第29页 |
2.3 光催化剂的活性评价 | 第29-31页 |
2.3.1 光催化剂活性的评价装置 | 第29-31页 |
2.3.2 产氢量的计算 | 第31页 |
2.4 催化剂的表征 | 第31-33页 |
2.4.1 X-射线粉末衍射(XRD) | 第31-32页 |
2.4.2 透射电子显微镜(TEM) | 第32页 |
2.4.3 UV-vis漫反射光谱(DRS) | 第32页 |
2.4.4 低温氮气吸脱附(BET) | 第32页 |
2.4.5 荧光光谱分析(PL) | 第32-33页 |
第三章 NiS纳米簇改性TiO_2光催化剂的制备及其光催化产氢活性研究 | 第33-41页 |
3.1 引言 | 第33页 |
3.2 实验部分 | 第33-34页 |
3.2.1 NiS/TiO_2光催化剂的制备 | 第33-34页 |
3.2.2 催化剂产氢活性评价 | 第34页 |
3.3 结果与讨论 | 第34-39页 |
3.3.1 XRD分析 | 第34-35页 |
3.3.2 形貌表征 | 第35-36页 |
3.3.3 紫外-可见漫反射光谱分析 | 第36页 |
3.3.4 荧光光谱分析 | 第36-37页 |
3.3.5 光催化产氢活性测试 | 第37-38页 |
3.3.6 NiS/TiO_2光催化机理探讨 | 第38-39页 |
3.4 本章小结 | 第39-41页 |
第四章 NiS/TNTs催化剂的制备及其光催化产氢活性研究 | 第41-54页 |
4.1 引言 | 第41页 |
4.2 实验部分 | 第41-43页 |
4.2.1 NiS/TNTs光催化剂的制备 | 第41-43页 |
4.2.2 光催化剂的活性及稳定性评价 | 第43页 |
4.3 结果与讨论 | 第43-53页 |
4.3.1 P25 与TNTs对比 | 第43-48页 |
4.3.2 NiS的添加对TNTs光催化活性影响 | 第48-53页 |
4.4 本章小结 | 第53-54页 |
结论与展望 | 第54-56页 |
参考文献 | 第56-66页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第66-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
附件 | 第68页 |