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红外透明导电薄膜的制备及其光电性质研究

摘要第4-6页
abstract第6-7页
第一章 绪论第10-21页
    1.1 研究背景及意义第10页
    1.2 红外透明导电薄膜的研究进展第10-19页
    1.3 本文研究内容及创新点第19-21页
第二章 薄膜制备及其表征方法第21-29页
    2.1 薄膜样品的制备第21-25页
    2.2 样品表征第25-29页
第三章 CuCrO_2薄膜的性能研究第29-39页
    3.1 引言第29-30页
    3.2 退火温度对CuCrO_2薄膜性能的影响第30-33页
    3.3 溅射功率对CuCrO_2薄膜性能的影响第33-37页
    3.4 本章小结第37-39页
第四章 In_2O_3掺Hf薄膜的性能研究第39-51页
    4.1 引言第39-40页
    4.2 退火温度对IHfO薄膜性能的影响第40-42页
    4.3 薄膜厚度对IHfO薄膜性能的影响第42-47页
    4.4 IHfO/Cu/IHfO三层薄膜光电性能的研究第47-50页
    4.5 本章小结第50-51页
第五章 In_2O_3掺W薄膜的性能研究第51-59页
    5.1 引言第51-52页
    5.2 溅射功率对IWO薄膜性能的影响第52-53页
    5.3 O_2流量对IWO薄膜性能的影响第53-56页
    5.4 IWO双层薄膜的光电性能研究第56-58页
    5.5 本章小结第58-59页
第六章 结论与展望第59-62页
    6.1 全文总结第59-60页
    6.2 展望第60-62页
参考文献第62-66页
作者简介及科研成果第66-67页
致谢第67页

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