摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-21页 |
1.1 研究背景及意义 | 第10页 |
1.2 红外透明导电薄膜的研究进展 | 第10-19页 |
1.3 本文研究内容及创新点 | 第19-21页 |
第二章 薄膜制备及其表征方法 | 第21-29页 |
2.1 薄膜样品的制备 | 第21-25页 |
2.2 样品表征 | 第25-29页 |
第三章 CuCrO_2薄膜的性能研究 | 第29-39页 |
3.1 引言 | 第29-30页 |
3.2 退火温度对CuCrO_2薄膜性能的影响 | 第30-33页 |
3.3 溅射功率对CuCrO_2薄膜性能的影响 | 第33-37页 |
3.4 本章小结 | 第37-39页 |
第四章 In_2O_3掺Hf薄膜的性能研究 | 第39-51页 |
4.1 引言 | 第39-40页 |
4.2 退火温度对IHfO薄膜性能的影响 | 第40-42页 |
4.3 薄膜厚度对IHfO薄膜性能的影响 | 第42-47页 |
4.4 IHfO/Cu/IHfO三层薄膜光电性能的研究 | 第47-50页 |
4.5 本章小结 | 第50-51页 |
第五章 In_2O_3掺W薄膜的性能研究 | 第51-59页 |
5.1 引言 | 第51-52页 |
5.2 溅射功率对IWO薄膜性能的影响 | 第52-53页 |
5.3 O_2流量对IWO薄膜性能的影响 | 第53-56页 |
5.4 IWO双层薄膜的光电性能研究 | 第56-58页 |
5.5 本章小结 | 第58-59页 |
第六章 结论与展望 | 第59-62页 |
6.1 全文总结 | 第59-60页 |
6.2 展望 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
作者简介及科研成果 | 第66-67页 |
致谢 | 第67页 |