| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 氮化硼的结构与性质 | 第11-13页 |
| 1.1.1 氮化硼的结构 | 第11-12页 |
| 1.1.2 六方氮化硼的性质与应用 | 第12-13页 |
| 1.2 BN薄膜的制备及其掺杂情况的研究进展 | 第13-18页 |
| 1.2.1 BN薄膜制备的研究进展 | 第13-15页 |
| 1.2.2 BN薄膜掺杂特性的研究进展 | 第15-18页 |
| 1.3 本论文主要的研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 氮化硼薄膜的制备、掺杂及表征方法 | 第19-26页 |
| 2.1 磁控溅射的基本原理 | 第19-20页 |
| 2.2 双靶共溅原位掺杂原理 | 第20页 |
| 2.3 混合靶溅射原位掺杂原理 | 第20-21页 |
| 2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第21-22页 |
| 2.5 傅立叶变换红外光谱(FTIR) | 第22-23页 |
| 2.6 紫外—可见光吸收光谱(UV-Vis) | 第23-26页 |
| 第三章 工作气氛对六方氮化硼薄膜制备的影响 | 第26-36页 |
| 3.1 六方氮化硼薄膜的制备工艺 | 第26-27页 |
| 3.2 不同气氛下制备的六方氮化硼薄膜的XPS分析 | 第27-34页 |
| 3.3 不同气氛下制备的六方氮化硼薄膜的FTIR分析 | 第34-35页 |
| 3.4 小结 | 第35-36页 |
| 第四章 锌掺杂氮化硼薄膜的制备与表征 | 第36-52页 |
| 4.1 锌条法掺杂hBN薄膜的工艺及性能 | 第36-42页 |
| 4.1.1 锌条法掺杂hBN薄膜的工艺 | 第36页 |
| 4.1.2 锌条法掺杂的hBN薄膜XPS表征 | 第36-40页 |
| 4.1.3 锌条法掺杂的hBN薄膜FTIR表征 | 第40-41页 |
| 4.1.4 锌条法掺杂的hBN薄膜UV-Vis表征 | 第41-42页 |
| 4.2 双靶共溅法掺Zn的hBN薄膜的工艺及性能 | 第42-51页 |
| 4.2.1 双靶共溅法掺Zn的hBN薄膜工艺 | 第42页 |
| 4.2.2 双靶共溅法掺Zn的hBN薄膜的XPS表征 | 第42-47页 |
| 4.2.3 双靶共溅法掺Zn的hBN薄膜的FTIR表征 | 第47页 |
| 4.2.4 双靶共溅法掺Zn的hBN薄膜的UV-Vis表征 | 第47-48页 |
| 4.2.5 双靶共溅法掺Zn的hBN薄膜的电学性质 | 第48-49页 |
| 4.2.6 双靶共溅法掺Zn的hBN薄膜的电离能测试 | 第49-51页 |
| 4.3 小结 | 第51-52页 |
| 第五章 镁掺杂氮化硼薄膜的制备与表征 | 第52-59页 |
| 5.1 双靶共溅法掺Mg的hBN薄膜的工艺及性能 | 第52-53页 |
| 5.1.1 双靶共溅法掺Mg的hBN薄膜的工艺 | 第52页 |
| 5.1.2 双靶共溅法掺Mg的hBN薄膜的XRD表征 | 第52-53页 |
| 5.2 混合靶方法掺Mg的hBN薄膜的工艺及性能 | 第53-58页 |
| 5.2.1 混合靶方法掺Mg的hBN薄膜的工艺 | 第53页 |
| 5.2.2 混合靶方法掺Mg的hBN薄膜的XPS表征 | 第53-57页 |
| 5.2.3 混合靶方法掺Mg的hBN薄膜的FTIR表征 | 第57页 |
| 5.2.4 混合靶方法掺Mg的hBN薄膜的UV-Vis表征 | 第57-58页 |
| 5.3 小结 | 第58-59页 |
| 第六章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
