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氧化钨基复合薄膜的制备及其光催化还原Cr(Ⅵ)性能研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第1章 绪论第9-20页
    1.1 研究背景与意义第9-10页
    1.2 研究历史与现状第10-18页
        1.2.1 WO_3薄膜的制备方法第10-15页
        1.2.2 半导体光催化原理第15-16页
        1.2.3 WO_3的改性第16-18页
    1.3 研究目的与意义第18-19页
    1.4 研究内容第19-20页
第2章 研究内容与方法第20-26页
    2.1 研究内容第20页
    2.2 实验原料与设备第20-21页
        2.2.1 实验原料第20页
        2.2.2 实验设备第20-21页
    2.3 实验步骤第21-22页
    2.4 测试仪器与表征方法第22-26页
        2.4.1 组成分析第22-23页
        2.4.2 形貌结构第23-24页
        2.4.3 光催化性能第24-26页
第3章 Fe-THWO_3薄膜光催化剂的制备及其光催化还原Cr(Ⅵ)性能的研究第26-38页
    3.1 实验方案第26-27页
    3.2 结果与讨论第27-36页
        3.2.1 组成分析第27-29页
        3.2.2 形貌结构第29-31页
        3.2.3 光催化性能第31-36页
    3.3 本章小结第36-38页
第4章 Fe-WO_3/g-C3N4薄膜光催化剂的制备及其光催化还原Cr(Ⅵ)性能的研究第38-47页
    4.1 实验方案第38-39页
    4.2 结果与讨论第39-46页
        4.2.1 组成分析第39-41页
        4.2.2 形貌结构第41-42页
        4.2.3 光催化性能第42-46页
    4.3 本章小结第46-47页
第5章 结论与展望第47-49页
    5.1 结论第47页
    5.2 创新点第47-48页
    5.3 展望第48-49页
致谢第49-50页
参考文献第50-57页
附录第57页
    个人简介第57页

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