摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-20页 |
1.1 研究背景与意义 | 第9-10页 |
1.2 研究历史与现状 | 第10-18页 |
1.2.1 WO_3薄膜的制备方法 | 第10-15页 |
1.2.2 半导体光催化原理 | 第15-16页 |
1.2.3 WO_3的改性 | 第16-18页 |
1.3 研究目的与意义 | 第18-19页 |
1.4 研究内容 | 第19-20页 |
第2章 研究内容与方法 | 第20-26页 |
2.1 研究内容 | 第20页 |
2.2 实验原料与设备 | 第20-21页 |
2.2.1 实验原料 | 第20页 |
2.2.2 实验设备 | 第20-21页 |
2.3 实验步骤 | 第21-22页 |
2.4 测试仪器与表征方法 | 第22-26页 |
2.4.1 组成分析 | 第22-23页 |
2.4.2 形貌结构 | 第23-24页 |
2.4.3 光催化性能 | 第24-26页 |
第3章 Fe-THWO_3薄膜光催化剂的制备及其光催化还原Cr(Ⅵ)性能的研究 | 第26-38页 |
3.1 实验方案 | 第26-27页 |
3.2 结果与讨论 | 第27-36页 |
3.2.1 组成分析 | 第27-29页 |
3.2.2 形貌结构 | 第29-31页 |
3.2.3 光催化性能 | 第31-36页 |
3.3 本章小结 | 第36-38页 |
第4章 Fe-WO_3/g-C3N4薄膜光催化剂的制备及其光催化还原Cr(Ⅵ)性能的研究 | 第38-47页 |
4.1 实验方案 | 第38-39页 |
4.2 结果与讨论 | 第39-46页 |
4.2.1 组成分析 | 第39-41页 |
4.2.2 形貌结构 | 第41-42页 |
4.2.3 光催化性能 | 第42-46页 |
4.3 本章小结 | 第46-47页 |
第5章 结论与展望 | 第47-49页 |
5.1 结论 | 第47页 |
5.2 创新点 | 第47-48页 |
5.3 展望 | 第48-49页 |
致谢 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-57页 |
附录 | 第57页 |
个人简介 | 第57页 |