摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-9页 |
第1章 绪论 | 第10-21页 |
1.1 空气污染及治理现状 | 第10-11页 |
1.2 半导体光催化去除气相NO原理 | 第11-12页 |
1.3 可见光响应型光催化剂去除气相NO的研究进展 | 第12-14页 |
1.3.1 改性Ti O2光催化剂 | 第12-13页 |
1.3.2 新型可见光响应光催化剂 | 第13页 |
1.3.3 石墨型碳化氮(g-C_3N_4)光催化剂 | 第13-14页 |
1.4 g-C_3N_4光催化剂研究现状 | 第14-19页 |
1.4.1 g-C_3N_4光催化剂的结构特点 | 第14-15页 |
1.4.2 g-C_3N_4光催化剂的制备方法 | 第15页 |
1.4.3 g-C_3N_4光催化剂的改性方法 | 第15-17页 |
1.4.4 g-C_3N_4光催化剂的应用 | 第17-19页 |
1.5 g-C_3N_4催化剂催化降解气相NO存在的问题 | 第19-20页 |
1.6 课题研究的主要内容 | 第20-21页 |
第2章 实验部分 | 第21-27页 |
2.1 实验原料与试剂 | 第21页 |
2.2 实验仪器与设备 | 第21-22页 |
2.3 半导体光催化剂的表征方法 | 第22-25页 |
2.3.1 X-射线粉末衍射(XRD) | 第22页 |
2.3.2 比表面积(BET)和孔结构(BJH) | 第22页 |
2.3.3 扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM) | 第22-23页 |
2.3.4 傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第23页 |
2.3.5 紫外-可见漫反射吸收光谱(UV-vis DRS) | 第23页 |
2.3.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第23页 |
2.3.7 荧光光谱(PL) | 第23页 |
2.3.8 荧光寿命光谱(FLS) | 第23-24页 |
2.3.9 电化学阻抗谱(EIS) | 第24页 |
2.3.10 NO-NO_2-NO_x分析仪 | 第24-25页 |
2.4 活性测试方法 | 第25-27页 |
第3章 介孔g-C_3N_4的模板法合成及其可见光光催化降解气相NO性能研究 | 第27-39页 |
3.1 引言 | 第27-28页 |
3.2 催化剂的制备 | 第28-29页 |
3.3 结果与分析 | 第29-38页 |
3.3.1 晶相结构表征(XRD) | 第29-30页 |
3.3.2 比表面积(BET)和孔结构(BJH) | 第30-31页 |
3.3.3 扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM) | 第31-32页 |
3.3.4 傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第32页 |
3.3.5 X射线光电子能谱(XPS) | 第32-34页 |
3.3.6 紫外-可见漫反射吸收光谱(UV-vis DRS) | 第34-35页 |
3.3.7 荧光光谱(PL) | 第35页 |
3.3.8 可见光下去除空气中NO的光催化活性及其稳定性研究 | 第35-38页 |
3.4 本章小结 | 第38-39页 |
第4章 热剥离制备的多孔g-C_3N_4纳米片及其可见光催化性能增强机制 | 第39-57页 |
4.1 引言 | 第39-40页 |
4.2 纳米片光催化剂的制备 | 第40-41页 |
4.2.1 块状g-C_3N_4的合成 | 第40-41页 |
4.2.2 g-C_3N_4纳米片的合成 | 第41页 |
4.3 结果与分析 | 第41-56页 |
4.3.1 g-C_3N_4纳米片的质量与颜色变化分析 | 第41-42页 |
4.3.2 晶相结构表征(XRD) | 第42-43页 |
4.3.3 扫描电子显微镜(SEM)及透射电子显微镜(TEM) | 第43-46页 |
4.3.4 纳米片的形成机理 | 第46-47页 |
4.3.5 比表面积(BET)和孔结构(BJH) | 第47-48页 |
4.3.6 FT-IR光谱及X射线光电子能谱(XPS) | 第48-51页 |
4.3.7 紫外-可见漫反射吸收光谱(UV-vis DRS) | 第51页 |
4.3.8 g-C_3N_4纳米片能带结构分析 | 第51-52页 |
4.3.9 荧光光谱(PL) | 第52-54页 |
4.3.10 可见光下去除空气中NO的光催化活性 | 第54-55页 |
4.3.11 多次光催化反应循环和光化学稳定性 | 第55-56页 |
4.4 本章小结 | 第56-57页 |
第5章 石墨烯材料与介孔g-C_3N_4复合催化剂的制备及其可见光催化性能增强机制 | 第57-70页 |
5.1 引言 | 第57-58页 |
5.2 复合光催化剂的制备 | 第58-59页 |
5.2.1 介孔碳化氮的合成 | 第58页 |
5.2.2 MCN-G和MCN-GO光催化复合物的合成 | 第58-59页 |
5.3 结果与分析 | 第59-69页 |
5.3.1 MCN-G和MCN-GO纳米复合物的形成机理 | 第59页 |
5.3.2 晶相结构表征(XRD) | 第59-60页 |
5.3.3 扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM) | 第60-62页 |
5.3.4 比表面积(BET)和孔结构(BJH) | 第62-63页 |
5.3.5 傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第63-64页 |
5.3.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第64-65页 |
5.3.7 紫外-可见漫反射吸收光谱(UV-vis DRS) | 第65-66页 |
5.3.8 荧光光谱(PL) | 第66-67页 |
5.3.9 电化学阻抗谱(EIS) | 第67页 |
5.3.10 可见光下去除空气中NO的光催化活性 | 第67-69页 |
5.3.11 纳米复合物光催化反应机理 | 第69页 |
5.4 本章小结 | 第69-70页 |
第6章结论与展望 | 第70-72页 |
6.1 结论 | 第70-71页 |
6.2 展望 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-85页 |
攻读硕士学位期间科研成果、参加课题及获奖情况 | 第85-87页 |
致谢 | 第87页 |