| 摘要 | 第9-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第一章 综述 | 第13-36页 |
| 1.1 太阳能光解水技术简介 | 第14页 |
| 1.2 太阳能光解水原理 | 第14-19页 |
| 1.2.1 装置 (光电化学电池photoelectrochemical cell) | 第14-16页 |
| 1.2.2 半导体光催化剂概述 | 第16-17页 |
| 1.2.3 太阳能光解水的基本原理 | 第17-18页 |
| 1.2.4 太阳能光解水的基本步骤 | 第18-19页 |
| 1.3 光解水半导体催化剂 | 第19-34页 |
| 1.3.1 光解水半导体催化剂的研究现状 | 第19-20页 |
| 1.3.2 光解水半导体材料 | 第20-34页 |
| 1.3.2.1 钒酸铋简介 | 第20页 |
| 1.3.2.2 钒酸铋的晶相及结构 | 第20-22页 |
| 1.3.2.3 钒酸铋的制备方法及其光化学性能研究 | 第22-25页 |
| 1.3.2.3.1 高温固相反应法 | 第22-23页 |
| 1.3.2.3.2 化学浴沉积法 | 第23页 |
| 1.3.2.3.3 溶胶-凝胶法 | 第23-24页 |
| 1.3.2.3.4 水热法 | 第24-25页 |
| 1.3.2.4 二氧化钛 | 第25-28页 |
| 1.3.2.4.1 纳米晶态TiO_2膜 | 第25-26页 |
| 1.3.2.4.2 有序的TiO_2纳米管和纳米棒阵列 | 第26-28页 |
| 1.3.2.5 二氧化钛的改性 | 第28-34页 |
| 1.3.2.5.1 金属元素掺杂 | 第28-30页 |
| 1.3.2.5.2 非金属元素的掺杂 | 第30-31页 |
| 1.3.2.5.3 半导体复合 | 第31-33页 |
| 1.3.2.5.4 晶体结构的改性 | 第33-34页 |
| 1.4 本论文的研究目的以及意义 | 第34-36页 |
| 第二章 单斜BiVO_4的制备及光电化学性能研究 | 第36-49页 |
| 2.1 引言 | 第36页 |
| 2.2 实验部分 | 第36-39页 |
| 2.2.1 仪器 | 第36-37页 |
| 2.2.2 试剂 | 第37-38页 |
| 2.2.3 表征分析手段 | 第38页 |
| 2.2.4 光催化剂的制备 | 第38-39页 |
| 2.2.5 电化学还原处理 | 第39页 |
| 2.2.6 加入NaHB_4的电化学还原处理 | 第39页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第39-48页 |
| 2.3.1 SEM（扫描电镜）分析 | 第39-40页 |
| 2.3.2 XRD（X射线衍射）分析 | 第40页 |
| 2.3.3 不同电压时可见光电流测试及分析 | 第40-42页 |
| 2.3.4 EIS(电化学阻抗)以及莫特-肖特基曲线分析 | 第42-43页 |
| 2.3.5 不同波长时光电流响应 | 第43-44页 |
| 2.3.6 XPS (X光电子能谱) 分析 | 第44-46页 |
| 2.3.7 UV-vis(紫外可见光谱)分析 | 第46-47页 |
| 2.3.8 样品的稳定性测试 | 第47-48页 |
| 2.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第三章 TiO_2的制备及光电化学性能研究 | 第49-67页 |
| 3.1 引言 | 第49页 |
| 3.2 实验部分 | 第49-52页 |
| 3.2.1 仪器 | 第49-50页 |
| 3.2.2 试剂 | 第50页 |
| 3.2.3 表征分析手段 | 第50-51页 |
| 3.2.4 二氧化钛薄膜的制备 | 第51-52页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第52-66页 |
| 3.3.1 SEM（扫描电子显微镜）分析 | 第52-55页 |
| 3.3.2 XRD（X射线衍射）分析 | 第55-58页 |
| 3.3.3 TEM（场发射透射电镜）分析 | 第58-59页 |
| 3.3.4 SAED（选区电子衍射）分析 | 第59-60页 |
| 3.3.5 可将光电流响应测试及分析 | 第60-61页 |
| 3.3.6 EIS（电化学阻抗）以及莫特-肖特基曲线分析 | 第61-63页 |
| 3.3.7 UV-vis(紫外可见光谱)分析 | 第63页 |
| 3.3.8 XPS（光电子能谱）分析 | 第63-64页 |
| 3.3.9 短路电流测试以及IPCE(光电转换效率)测试和分析 | 第64-66页 |
| 3.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-83页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
