| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 概述 | 第10页 |
| 1.2 超疏水现象的基本原理 | 第10-13页 |
| 1.2.1 浸润性的静态表征 | 第10-12页 |
| 1.2.2 浸润性的动态表征 | 第12-13页 |
| 1.3 超疏水表面的制备方法 | 第13-16页 |
| 1.4 单分散 SiO_2纳米颗粒的制备 | 第16-18页 |
| 1.5 论文的选题及研究内容 | 第18-19页 |
| 1.5.1 研究目的及意义 | 第18页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-24页 |
| 2 有机胺催化制备纳米 SiO_2颗粒 | 第24-32页 |
| 2.1 引言 | 第24-25页 |
| 2.2 实验部分 | 第25页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第25页 |
| 2.2.2 制备方法 | 第25页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第25-28页 |
| 2.3.1 一元胺作催化剂对 SiO_2纳米颗粒的影响 | 第25-27页 |
| 2.3.2 二元胺作催化剂对 SiO_2纳米颗粒的影响 | 第27-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-32页 |
| 3 利用 TMBDM 和 TMHDM 为催化剂制备疏水化 SiO_2溶胶及超疏水表面 | 第32-48页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-34页 |
| 3.2.1 实验试剂及仪器 | 第32-33页 |
| 3.2.2 制备过程 | 第33页 |
| 3.2.3 表征手段 | 第33-34页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第34-46页 |
| 3.3.1 FT-IR 分析 | 第34-35页 |
| 3.3.2 涂层热稳定性分析 | 第35-36页 |
| 3.3.3 硅源浓度对 TEOS 水解的影响 | 第36-40页 |
| 3.3.4 有机胺浓度对 TEOS 水解的影响 | 第40-43页 |
| 3.3.5 HMDS 浓度对 TEOS 水解的影响 | 第43-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 4 介孔纳米 SiO_2超亲水防雾表面制备 | 第48-62页 |
| 4.1 引言 | 第48-49页 |
| 4.2 实验部分 | 第49-50页 |
| 4.2.1 实验试剂及仪器 | 第49页 |
| 4.2.2 制备过程 | 第49-50页 |
| 4.2.3 表征手段 | 第50页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第50-57页 |
| 4.3.1 FT-IR 分析 | 第50-51页 |
| 4.3.2 涂层形貌分析 | 第51-54页 |
| 4.3.3 涂层厚度对透过率的影响 | 第54-56页 |
| 4.3.4 涂层浸润性分析 | 第56-57页 |
| 4.3.5 涂层防雾性能 | 第57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 5 层层自组装法制备超疏水表面 | 第62-70页 |
| 5.1 引言 | 第62-63页 |
| 5.2 实验部分 | 第63-64页 |
| 5.2.1 实验试剂及仪器 | 第63页 |
| 5.2.2 制备过程 | 第63-64页 |
| 5.2.3 表征手段 | 第64页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第64-67页 |
| 5.3.1 涂层形貌及浸润性分析 | 第64-65页 |
| 5.3.2 涂层 FT-IR 分析 | 第65-66页 |
| 5.3.3 SiO_2粒径对涂层透明性的影响 | 第66页 |
| 5.3.4 涂层 TG-DTG 表征 | 第66-67页 |
| 5.4 本章小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 6 结论 | 第70-72页 |
| 6.1 主要结论 | 第70-71页 |
| 6.2 本课题创新点 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第73-74页 |
