| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第10页 |
| 1.2 半导体光催化技术 | 第10-13页 |
| 1.2.1 半导体光催化的原理 | 第10-11页 |
| 1.2.2 半导体光催化剂的改性 | 第11-13页 |
| 1.2.3 半导体光催化的应用 | 第13页 |
| 1.3 半导体异质结光催化剂 | 第13-20页 |
| 1.3.1 半导体-半导体异质结光催化剂 | 第14-15页 |
| 1.3.2 半导体-金属异质结光催化剂 | 第15-17页 |
| 1.3.3 半导体-碳材料异质结光催化剂 | 第17-19页 |
| 1.3.4 多组分异质结光催化剂 | 第19-20页 |
| 1.4 本论文的选题意义与研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 Ag_2WO_4/WO_3异质结光催化剂的合成及其光催化性质的研究 | 第21-31页 |
| 2.1 前言 | 第21页 |
| 2.2 实验部分 | 第21-23页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第21-22页 |
| 2.2.2 Ag_2WO_4/WO_3异质结光催化剂的制备 | 第22页 |
| 2.2.3 Ag_2WO_4/WO_3异质结光催化剂的相结构、组成及光吸收性质表征 | 第22页 |
| 2.2.4 Ag_2WO_4/WO_3异质结光催化剂性能测试 | 第22-23页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第23-30页 |
| 2.3.1 Ag_2WO_4/WO_3异质结光催化剂的相结构、形貌和光吸收特性 | 第23-27页 |
| 2.3.2 Ag_2WO_4/WO_3异质结光催化剂性能测试 | 第27-28页 |
| 2.3.3 Ag_2WO_4/WO_3异质结光催化剂降解污染物的机理 | 第28-29页 |
| 2.3.4 Ag_2WO_4/WO_3异质结光催化剂的稳定性 | 第29-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 WO_3/g-C_3N_4异质结光催化剂的合成及其光催化性质的研究 | 第31-40页 |
| 3.1 前言 | 第31页 |
| 3.2 实验部分 | 第31-33页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第31页 |
| 3.2.2 WO_3/g-C_3N_4异质结光催化剂的制备 | 第31-32页 |
| 3.2.3 WO_3/g-C_3N_4异质结光催化剂的相结构、组成及光吸收性质表征 | 第32页 |
| 3.2.4 WO_3/g-C_3N_4异质结光催化剂性能测试 | 第32-33页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第33-38页 |
| 3.3.1 WO_3/g-C_3N_4异质结光催化剂的相结构、形貌和光吸收特性 | 第33-35页 |
| 3.3.2 WO_3/g-C_3N_4异质结光催化剂性能测试 | 第35-36页 |
| 3.3.3 WO_3/g-C_3N_4异质结光催化剂降解污染物的机理 | 第36-38页 |
| 3.3.4 WO_3/g-C_3N_4异质结光催化剂的稳定性 | 第38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 结论 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-48页 |
| 致谢 | 第48页 |
