| 摘要 | 第2-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第一章 引言 | 第8-18页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-10页 |
| 1.1.1 红外窄带辐射光源的主要应用领域 | 第8-9页 |
| 1.1.2 中红外激光器的主要应用领域 | 第9-10页 |
| 1.1.3 红外透射调控薄膜的主要应用领域 | 第10页 |
| 1.2 研究现状 | 第10-18页 |
| 1.2.1 红外辐射调控结构的研究现状 | 第10-12页 |
| 1.2.2 中红外激光器的发展现状 | 第12-17页 |
| 1.2.3 红外透射调控材料VO2的研究现状 | 第17-18页 |
| 第二章 基于金属-介质DBR非对称腔的红外窄带辐射调控研究 | 第18-36页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 介质分布式布拉格反射镜(DBR)原理 | 第18-21页 |
| 2.3 金属-介质DBR非对称腔红外窄带辐射源理论模拟部分 | 第21-26页 |
| 2.3.1 金属-介质布拉格反射镜非对称腔红外窄带辐射源结构 | 第21-22页 |
| 2.3.2 金属-介质布拉格反射镜非对称腔红外窄带辐射源金属膜材料的选择 | 第22-23页 |
| 2.3.3 窄带辐射源样品介质层材料选择及最有厚度的确定 | 第23-24页 |
| 2.3.4 窄带辐射源辐射特性机理分析 | 第24-25页 |
| 2.3.5 窄带辐射源偏振特性 | 第25-26页 |
| 2.4 金属-介质DBR非对称腔红外窄带辐射源制备与测试分析 | 第26-35页 |
| 2.4.1 制备工艺容忍度分析 | 第26-27页 |
| 2.4.2 样品制备所需耗材 | 第27页 |
| 2.4.3 样品制备及测试所需仪器设备 | 第27-28页 |
| 2.4.4 样品制备过程 | 第28-29页 |
| 2.4.5 样品结构及其表征 | 第29页 |
| 2.4.6 样品反射谱/辐射谱测试 | 第29-33页 |
| 2.4.7 窄带辐射源样品发射功率表征 | 第33-35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 基于光学微腔嵌埋黑磷的中红外激射调控研究 | 第36-45页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 介质DBR对称型光学微腔嵌埋黑磷基中红外激光器理论模拟 | 第36-39页 |
| 3.2.1 介质DBR对称型光学微腔嵌埋黑磷基中红外激光器结构 | 第36-37页 |
| 3.2.2 介质DBR对称性光学微腔嵌埋黑磷基中红外激光器膜系设计及对应光学特性分析 | 第37-39页 |
| 3.3 介质光学微腔嵌埋中红外激光器的制备及测试 | 第39-44页 |
| 3.3.1 介质光学微腔制备工艺容忍度分析 | 第39-40页 |
| 3.3.2 光学微腔嵌埋红外激光器制备所需耗材 | 第40页 |
| 3.3.3 光学微腔嵌埋红外激光器制备所需仪器 | 第40-41页 |
| 3.3.4 光学微腔嵌埋样品制备过程 | 第41页 |
| 3.3.5 光学微腔嵌埋激光器光致发光PL谱测试 | 第41-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 基于双靶共溅射实现红外透射调控的红外节能玻璃的研究 | 第45-54页 |
| 4.1 引言 | 第45-46页 |
| 4.2 双靶共溅射制备不同W掺杂比的VO_2薄膜 | 第46-53页 |
| 4.2.1 V薄膜厚度与红外光谱关系研究 | 第46-47页 |
| 4.2.2 不同W掺杂比的V薄膜样品的制备 | 第47-49页 |
| 4.2.3 制备不同掺钨比的VO_2薄膜及其相变温度调节特性分析 | 第49-51页 |
| 4.2.4 对所制备的掺钨VO_2薄膜红外调节性能分析 | 第51-53页 |
| 4.3 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 总结与展望 | 第54-58页 |
| 5.1 论文总结 | 第54-55页 |
| 5.2 研究展望 | 第55-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
