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基于CCOS技术的盘式动压抛光工艺理论研究

中文摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
目录第6-8页
第一章 绪论第8-19页
    1.1 课题的来源与背景第8-11页
        1.1.1 课题的来源第8页
        1.1.2 课题的背景与意义第8-11页
    1.2 CCOS 技术的发展第11-12页
    1.3 流体动压抛光技术的发展第12-13页
    1.4 新技术的技术特点与基本理论组成第13-17页
        1.4.1 新技术的技术特点第13页
        1.4.2 新技术的基本理论组成与发展第13-17页
    1.5 本课题的主要研究内容和总体研究方案第17-19页
第二章 CCOS 去除函数的建立与分析第19-31页
    2.1 材料的去除数学模型第19-20页
    2.2 CCOS 去除函数的建立第20-24页
        2.2.1 行星运动模式第21页
        2.2.2 平转动运动模式第21-22页
        2.2.3 行星运动模式去除函数计算第22-24页
    2.3 磨损对去除函数的稳定性影响第24-30页
        2.3.1 磨损情况的抛光盘模型第24-26页
        2.3.2 磨损情况的压力分布第26-27页
        2.3.3 磨损情况的去除函数第27-30页
    2.4 本章小结第30-31页
第三章 盘式动压抛光的流场仿真分析第31-40页
    3.1 CFD 技术简介第31-33页
        3.1.1 CFD 基本思想第31-32页
        3.1.2 CFD 处理的基本过程第32-33页
    3.2 通用型几何模型建立第33-35页
    3.3 结构网格划分第35-36页
    3.4 模型仿真求解第36-39页
    3.5 本章小结第39-40页
第四章 盘式动压抛光的去除函数研究第40-51页
    4.1 盘式动压抛光定点去除函数第40-41页
    4.2 盘式动压抛光实际去除函数第41-46页
        4.2.1 行星运动方法第42-44页
        4.2.2 累加分时合成方法第44-46页
    4.3 盘式动压抛光去除函数评价第46-50页
        4.3.1 集中度评价第46-48页
        4.3.2 旋转对称度评价第48-50页
    4.4 本章小结第50-51页
第五章 盘式动压抛光驻留时间的求解第51-69页
    5.1 驻留时间求解的数学模型第51-54页
    5.2 矩阵法求解的基本思想第54-57页
        5.2.1 最佳一次逼近法第55-56页
        5.2.2 约束最小二乘法第56-57页
    5.3 优化模型的求解方法第57-60页
        5.3.1 反问题求解第57-59页
        5.3.2 正问题求解第59-60页
    5.4 驻留时间求解仿真实验第60-66页
        5.4.1 仿真实验基本条件与参数第60-62页
        5.4.2 Tikhonov 正则化求解实验第62-64页
        5.4.3 类迭代法求解实验第64-66页
    5.5 步进间距对加工面形精度的影响第66-68页
        5.5.1 Tikhonov 正则化方法第66-67页
        5.5.2 类迭代法第67-68页
    5.6 本章小结第68-69页
第六章 总结与展望第69-72页
    6.1 全文总结与主要结论第69-71页
    6.2 展望第71-72页
参考文献第72-76页
发表论文和科研情况说明第76-77页
致谢第77页

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