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WO3一维纳米结构场效应性能研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第9-14页
    1.1 引言第9-11页
    1.2 纳米线场效应晶体管第11-13页
        1.2.1 NWFET的器件结构第11-12页
        1.2.2 NWFET的工作原理第12-13页
    1.3 本文的研究思路及主要内容第13-14页
第二章 WO_3纳米线的制备以及NWFET的构筑第14-21页
    2.1 前言第14页
    2.2 水热法制备WO_3纳米线第14-16页
        2.2.1 实验方法和过程第14-15页
        2.2.2 样品结构和形貌的表征第15-16页
    2.3 WO_3纳米线场效应管的构筑第16-18页
    2.4 测试平台的搭建第18-21页
第三章 单根WO_3纳米线器件的场效应性能研究第21-32页
    3.1 单根WO_3纳米线器件场效应性能测试及结果第21-23页
    3.2 不同的电压扫描速率对单根WO_3纳米线器件的影响第23-26页
    3.3 不同的退火时间对单根WO_3纳米线器件的影响第26-29页
    3.4 真空中单根WO_3纳米线器件的场效应特性第29-32页
第四章 单根WO_3纳米线器件的双向整流性能研究第32-38页
    4.1 前言第32-33页
    4.2 单根WO_3纳米线器件双向整流性能测试及结果第33-38页
第五章 总结和展望第38-40页
参考文献第40-47页
附录:攻读硕士学位期间论文发表情况第47-48页
致谢第48-50页

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