摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-14页 |
1.1 引言 | 第9-11页 |
1.2 纳米线场效应晶体管 | 第11-13页 |
1.2.1 NWFET的器件结构 | 第11-12页 |
1.2.2 NWFET的工作原理 | 第12-13页 |
1.3 本文的研究思路及主要内容 | 第13-14页 |
第二章 WO_3纳米线的制备以及NWFET的构筑 | 第14-21页 |
2.1 前言 | 第14页 |
2.2 水热法制备WO_3纳米线 | 第14-16页 |
2.2.1 实验方法和过程 | 第14-15页 |
2.2.2 样品结构和形貌的表征 | 第15-16页 |
2.3 WO_3纳米线场效应管的构筑 | 第16-18页 |
2.4 测试平台的搭建 | 第18-21页 |
第三章 单根WO_3纳米线器件的场效应性能研究 | 第21-32页 |
3.1 单根WO_3纳米线器件场效应性能测试及结果 | 第21-23页 |
3.2 不同的电压扫描速率对单根WO_3纳米线器件的影响 | 第23-26页 |
3.3 不同的退火时间对单根WO_3纳米线器件的影响 | 第26-29页 |
3.4 真空中单根WO_3纳米线器件的场效应特性 | 第29-32页 |
第四章 单根WO_3纳米线器件的双向整流性能研究 | 第32-38页 |
4.1 前言 | 第32-33页 |
4.2 单根WO_3纳米线器件双向整流性能测试及结果 | 第33-38页 |
第五章 总结和展望 | 第38-40页 |
参考文献 | 第40-47页 |
附录:攻读硕士学位期间论文发表情况 | 第47-48页 |
致谢 | 第48-50页 |