微波等离子体炬质谱仪离子传输系统的研制与应用
提要 | 第4-5页 |
摘要 | 第5-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第1章 绪论 | 第15-31页 |
1.1 引言 | 第15-16页 |
1.2 研究背景及意义 | 第16-26页 |
1.2.1 研究背景 | 第16-17页 |
1.2.2 质谱技术 | 第17-23页 |
1.2.3 微波等离子体炬技术 | 第23-26页 |
1.3 MPT-MS技术研究现状及存在问题 | 第26-29页 |
1.3.1 MPT-MS现状 | 第26-29页 |
1.3.2 目前存在的问题 | 第29页 |
1.4 本文研究内容 | 第29-31页 |
第2章 微波等离子体炬质谱仪离子传输系统的研制 | 第31-57页 |
2.1 引言 | 第31-32页 |
2.2 离子传输系统总体设计 | 第32-33页 |
2.2.1 离子传输系统组成及结构设计 | 第32-33页 |
2.2.2 SIMION离子轨迹仿真软件 | 第33页 |
2.3 偏转电极的研制 | 第33-36页 |
2.3.1 偏转电极的背景及原理 | 第33-34页 |
2.3.2 偏转电极的研究与设计 | 第34-35页 |
2.3.3 偏转电极参数优化 | 第35-36页 |
2.4 离子漏斗的研制 | 第36-47页 |
2.4.1 离子漏斗背景及原理 | 第36-39页 |
2.4.2 离子漏斗的仿真及设计 | 第39-46页 |
2.4.3 离子漏斗参数优化 | 第46-47页 |
2.5 八极杆传输系统的研制 | 第47-50页 |
2.5.1 八极杆的原理及设计 | 第47-48页 |
2.5.2 八极杆参数优化 | 第48-50页 |
2.6 Einzel透镜的研制 | 第50-51页 |
2.7 离子传输系统的集成 | 第51-56页 |
2.7.1 离子漏斗的安装 | 第51-52页 |
2.7.2 八极杆传输系统的安装 | 第52页 |
2.7.3 Einzel透镜的安装 | 第52-53页 |
2.7.4 四极杆质量检测器 | 第53-56页 |
2.8 本章小结 | 第56-57页 |
第3章 相位调制离子漏斗的研制 | 第57-81页 |
3.1 引言 | 第57页 |
3.2 质量歧视效应 | 第57-63页 |
3.2.1 质量歧视效应产生的原理 | 第57-61页 |
3.2.2 减小质量歧视效应的方法 | 第61-63页 |
3.3 相位调制离子漏斗设计思想的提出 | 第63-66页 |
3.4 方波相位调制漏斗的设计 | 第66-72页 |
3.5 方波相位调制漏斗性质的研究 | 第72-76页 |
3.6 方波相位调制漏斗实验装置的研制 | 第76-79页 |
3.7 方波相位调制漏斗的应用 | 第79-80页 |
3.8 小结 | 第80-81页 |
第4章 MPT-MS整机集成与测试 | 第81-98页 |
4.1 引言 | 第81页 |
4.2 整体集成 | 第81-88页 |
4.2.1 微波等离子体炬 | 第83-84页 |
4.2.2 质谱仪接口 | 第84-86页 |
4.2.3 真空系统 | 第86-87页 |
4.2.4 离子检测系统 | 第87-88页 |
4.3 测试控制系统及嵌入式软件 | 第88-95页 |
4.3.1 离子传输系统测控模块 | 第89-91页 |
4.3.2 真空系统及外部设备测控模块 | 第91-95页 |
4.4 MPT-MS的测试 | 第95-97页 |
4.4.1 极限真空度 | 第95页 |
4.4.2 分辨率 | 第95-96页 |
4.4.3 质量稳定性 | 第96页 |
4.4.4 检出限 | 第96-97页 |
4.5 本章小结 | 第97-98页 |
第5章 微波等离子体炬质谱仪检测金属的应用研究 | 第98-110页 |
5.1 引言 | 第98页 |
5.2 MPT-MS进样系统 | 第98-101页 |
5.2.1 雾化冷凝去溶系统 | 第98-100页 |
5.2.2 Nafion管去溶系统 | 第100-101页 |
5.3 碰撞诱导解离对金属离子的作用 | 第101-107页 |
5.4 MPT-MS检测金属元素 | 第107-109页 |
5.5 本章小结 | 第109-110页 |
第6章 全文总结 | 第110-113页 |
6.1 主要创新点及研究成果 | 第110-112页 |
6.2 存在的不足及下一步工作建议 | 第112-113页 |
参考文献 | 第113-124页 |
作者学术论文与科研成果 | 第124-125页 |
致谢 | 第125页 |