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微波等离子体炬质谱仪离子传输系统的研制与应用

提要第4-5页
摘要第5-8页
Abstract第8-10页
第1章 绪论第15-31页
    1.1 引言第15-16页
    1.2 研究背景及意义第16-26页
        1.2.1 研究背景第16-17页
        1.2.2 质谱技术第17-23页
        1.2.3 微波等离子体炬技术第23-26页
    1.3 MPT-MS技术研究现状及存在问题第26-29页
        1.3.1 MPT-MS现状第26-29页
        1.3.2 目前存在的问题第29页
    1.4 本文研究内容第29-31页
第2章 微波等离子体炬质谱仪离子传输系统的研制第31-57页
    2.1 引言第31-32页
    2.2 离子传输系统总体设计第32-33页
        2.2.1 离子传输系统组成及结构设计第32-33页
        2.2.2 SIMION离子轨迹仿真软件第33页
    2.3 偏转电极的研制第33-36页
        2.3.1 偏转电极的背景及原理第33-34页
        2.3.2 偏转电极的研究与设计第34-35页
        2.3.3 偏转电极参数优化第35-36页
    2.4 离子漏斗的研制第36-47页
        2.4.1 离子漏斗背景及原理第36-39页
        2.4.2 离子漏斗的仿真及设计第39-46页
        2.4.3 离子漏斗参数优化第46-47页
    2.5 八极杆传输系统的研制第47-50页
        2.5.1 八极杆的原理及设计第47-48页
        2.5.2 八极杆参数优化第48-50页
    2.6 Einzel透镜的研制第50-51页
    2.7 离子传输系统的集成第51-56页
        2.7.1 离子漏斗的安装第51-52页
        2.7.2 八极杆传输系统的安装第52页
        2.7.3 Einzel透镜的安装第52-53页
        2.7.4 四极杆质量检测器第53-56页
    2.8 本章小结第56-57页
第3章 相位调制离子漏斗的研制第57-81页
    3.1 引言第57页
    3.2 质量歧视效应第57-63页
        3.2.1 质量歧视效应产生的原理第57-61页
        3.2.2 减小质量歧视效应的方法第61-63页
    3.3 相位调制离子漏斗设计思想的提出第63-66页
    3.4 方波相位调制漏斗的设计第66-72页
    3.5 方波相位调制漏斗性质的研究第72-76页
    3.6 方波相位调制漏斗实验装置的研制第76-79页
    3.7 方波相位调制漏斗的应用第79-80页
    3.8 小结第80-81页
第4章 MPT-MS整机集成与测试第81-98页
    4.1 引言第81页
    4.2 整体集成第81-88页
        4.2.1 微波等离子体炬第83-84页
        4.2.2 质谱仪接口第84-86页
        4.2.3 真空系统第86-87页
        4.2.4 离子检测系统第87-88页
    4.3 测试控制系统及嵌入式软件第88-95页
        4.3.1 离子传输系统测控模块第89-91页
        4.3.2 真空系统及外部设备测控模块第91-95页
    4.4 MPT-MS的测试第95-97页
        4.4.1 极限真空度第95页
        4.4.2 分辨率第95-96页
        4.4.3 质量稳定性第96页
        4.4.4 检出限第96-97页
    4.5 本章小结第97-98页
第5章 微波等离子体炬质谱仪检测金属的应用研究第98-110页
    5.1 引言第98页
    5.2 MPT-MS进样系统第98-101页
        5.2.1 雾化冷凝去溶系统第98-100页
        5.2.2 Nafion管去溶系统第100-101页
    5.3 碰撞诱导解离对金属离子的作用第101-107页
    5.4 MPT-MS检测金属元素第107-109页
    5.5 本章小结第109-110页
第6章 全文总结第110-113页
    6.1 主要创新点及研究成果第110-112页
    6.2 存在的不足及下一步工作建议第112-113页
参考文献第113-124页
作者学术论文与科研成果第124-125页
致谢第125页

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