摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-26页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 ZnO的结构与性质 | 第12-15页 |
1.2.1 ZnO的结构特性 | 第12-13页 |
1.2.2 ZnO的电学特性 | 第13-14页 |
1.2.3 ZnO的光学特性 | 第14-15页 |
1.3 掺铝氧化锌(AZO)薄膜的概述 | 第15-17页 |
1.4 AZO薄膜的制备方法 | 第17-22页 |
1.4.1 磁控溅射法 | 第17-19页 |
1.4.2 溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
1.4.3 脉冲激光沉积法 | 第20-21页 |
1.4.4 分子束外延(MBE) | 第21-22页 |
1.5 AZO薄膜的应用 | 第22-24页 |
1.5.1 在薄膜太阳能电池上的应用 | 第22-23页 |
1.5.2 在显示器上的应用 | 第23页 |
1.5.3 在气敏元件上的应用 | 第23-24页 |
1.6 本论文的主要研究意义与内容 | 第24-26页 |
1.6.1 研究意义 | 第24-25页 |
1.6.2 研究内容 | 第25-26页 |
第二章 薄膜的制备与表征 | 第26-33页 |
2.1 实验设备 | 第26页 |
2.2 实验方案与制备过程 | 第26-28页 |
2.2.1 实验方案 | 第26-27页 |
2.2.2 薄膜的制备过程 | 第27-28页 |
2.3 薄膜的结构及形貌表征 | 第28-29页 |
2.3.1 薄膜的厚度测量 | 第28页 |
2.3.2 薄膜的的形貌表征 | 第28页 |
2.3.3 薄膜结构分析 | 第28-29页 |
2.3.4 薄膜成分分析 | 第29页 |
2.4 薄膜性能测试 | 第29-33页 |
2.4.1 薄膜的电学性能 | 第29-31页 |
2.4.2 薄膜的光学性能 | 第31-33页 |
第三章 AZO透明导电薄膜基本沉积条件的选择 | 第33-47页 |
3.1 引言 | 第33页 |
3.2 样品台转速对AZO薄膜结构及性能的影响 | 第33-39页 |
3.2.1 样品台转速对AZO薄膜结构的影响 | 第34-37页 |
3.2.2 样品台转速对AZO薄膜电学性能的影响 | 第37-38页 |
3.2.3 样品台转速对AZO薄膜光学性能的影响 | 第38-39页 |
3.2.4 性能指数Φ_(TC) | 第39页 |
3.3 靶基距离对AZO薄膜结构及性能的影响 | 第39-45页 |
3.3.1 靶基距离对AZO薄膜结构的影响 | 第40-43页 |
3.3.2 靶基距离对AZO薄膜电学性能的影响 | 第43-44页 |
3.3.3 靶基距离对AZO薄膜光学性能的影响 | 第44-45页 |
3.3.4 性能指数Φ_(TC) | 第45页 |
3.4 靶基距离为3cm时两种电流下AZO薄膜的结构与性能的对比 | 第45-46页 |
3.5 本章小结 | 第46-47页 |
第四章 不同Al掺杂量AZO薄膜的制备与性能研究 | 第47-55页 |
4.1 引言 | 第47页 |
4.2 Al掺杂量对AZO薄膜结构的影响 | 第47-50页 |
4.3 A掺杂量对AZO薄膜电学性能的影响 | 第50-52页 |
4.4 Al掺杂量对AZO薄膜光学性能的影响 | 第52-54页 |
4.5 性能指数Φ_(TC) | 第54页 |
4.6 本章小结 | 第54-55页 |
第五章 工艺参数对AZO薄膜的结构与性能的影响 | 第55-65页 |
5.1 引言 | 第55页 |
5.2 工艺参数对AZO薄膜结构的影响 | 第55-60页 |
5.2.1 溅射气压 | 第55-57页 |
5.2.2 靶电流 | 第57-60页 |
5.3 工艺参数对AZO薄膜性能的影响 | 第60-63页 |
5.3.1 溅射气压 | 第60-61页 |
5.3.2 靶电流 | 第61-63页 |
5.3.3 性能指数Φ_(TC) | 第63页 |
5.4 本章小结 | 第63-65页 |
第六章 结论与展望 | 第65-67页 |
6.1 结论 | 第65页 |
6.2 展望 | 第65-67页 |
致谢 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-75页 |
附录:攻读硕士学位期间的成果目录 | 第75页 |