| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 创新点 | 第7-11页 |
| 第一章 综述 | 第11-20页 |
| 1.1 课题研究的背景和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 半导体材料光催化基本原理 | 第12-13页 |
| 1.3 光催化中的关键问题 | 第13-14页 |
| 1.4 提高光催化效率的措施 | 第14-15页 |
| 1.5 磁性材料的研究进展 | 第15-18页 |
| 1.5.1 软磁性铁氧体材料的应用 | 第16页 |
| 1.5.2 硬磁性铁氧体材料的应用 | 第16页 |
| 1.5.3 尖晶石结构铁氧体 | 第16-18页 |
| 1.6 复合光催化磁性材料 | 第18页 |
| 1.7 水污染处理现状 | 第18-19页 |
| 1.8 研究计划 | 第19-20页 |
| 第二章 实验部分 | 第20-24页 |
| 2.1 药品及仪器 | 第20-21页 |
| 2.2 催化剂的表征 | 第21-22页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第21页 |
| 2.2.2 紫外-可见漫反射吸收光谱 | 第21页 |
| 2.2.3 电镜扫描 | 第21页 |
| 2.2.4 荧光光谱 | 第21页 |
| 2.2.5 电化学测试 | 第21-22页 |
| 2.2.6 Zeta电位测试 | 第22页 |
| 2.2.7 比表面积测试 | 第22页 |
| 2.3 光催化反应 | 第22-24页 |
| 2.3.1 光催化反应装置 | 第22-23页 |
| 2.3.2 光催化反应原理 | 第23-24页 |
| 第三章 正交实验确定具有最优光催化性能的铁酸镍 | 第24-34页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 正交实验的设计与NiFe_2O_4的制备 | 第24-25页 |
| 3.2.1 正交实验的设计 | 第24-25页 |
| 3.2.2 NiFe_2O_4的制备方法 | 第25页 |
| 3.3 NiFe_2O_4光催化剂的表征 | 第25-31页 |
| 3.3.1 样品的紫外可见吸收光谱 | 第25-26页 |
| 3.3.2 样品的光催化活性 | 第26-28页 |
| 3.3.3 样品的XRD分析 | 第28-29页 |
| 3.3.4 样品的SEM分析 | 第29-30页 |
| 3.3.5 8 号样品的禁带宽度 | 第30-31页 |
| 3.4 光催化机理 | 第31-33页 |
| 3.5 结论 | 第33-34页 |
| 第四章 BiOI的制备表征及其光催化性能的研究 | 第34-40页 |
| 4.1 引言 | 第34页 |
| 4.2 BiOI的制备 | 第34页 |
| 4.3 BiOI光催化剂的表征 | 第34-36页 |
| 4.3.1 BiOI光催化剂的XRD分析 | 第34-35页 |
| 4.3.2 BiOI光催化剂的SEM分析 | 第35页 |
| 4.3.3 BiOI光催化剂的光吸收特性 | 第35-36页 |
| 4.4 BiOI光催化剂的光催化活性 | 第36-37页 |
| 4.5 光催化机理的研究 | 第37-39页 |
| 4.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 复合光催化剂BiOI/NiFe_2O_4的制备表征及光催化性能研究 | 第40-49页 |
| 5.1 引言 | 第40页 |
| 5.2 复合光催化剂BiOI/NiFe_2O_4的制备 | 第40页 |
| 5.3 光催化剂的表征 | 第40-43页 |
| 5.3.1 光催化剂的XRD分析 | 第40-41页 |
| 5.3.2 光催化剂的SEM分析 | 第41-42页 |
| 5.3.3 光催化剂的光吸收特性 | 第42-43页 |
| 5.4 BiOI/NiFe_2O_4的光催化活性 | 第43-45页 |
| 5.5 光催化机理 | 第45-48页 |
| 5.6 本章小结 | 第48-49页 |
| 第六章 复合光催化剂BiOI/NiFe_2O_4吸附性能研究 | 第49-54页 |
| 6.1 引言 | 第49页 |
| 6.2 BiOI/NiFe_2O_4的结构参数 | 第49页 |
| 6.3 pH值对BiOI/Ni Fe_2O_4吸附量的影响 | 第49-50页 |
| 6.4 温度对BiOI/NiFe_2O_4吸附过程的影响 | 第50-51页 |
| 6.5 吸附动力学 | 第51-52页 |
| 6.6 等温吸附 | 第52-53页 |
| 6.7 本章小结 | 第53-54页 |
| 总结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-63页 |
| 发表文章目录 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
