| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 水污染现状与防治措施 | 第8-9页 |
| 1.1.1 水资源的污染 | 第8页 |
| 1.1.2 水污染的防治措施 | 第8-9页 |
| 1.1.3 常见的污水处理工艺 | 第9页 |
| 1.2 氧化沟工艺简介 | 第9-11页 |
| 1.2.1 氧化沟工艺的发展与应用 | 第9-11页 |
| 1.2.2 氧化沟工艺的特点 | 第11页 |
| 1.3 氧化沟流场数值模拟的目的与内容 | 第11-16页 |
| 1.3.1 氧化沟流场研究的目的 | 第11-12页 |
| 1.3.2 氧化沟流场数值模拟的研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3.3 本文的研究方法与研究内容 | 第14-16页 |
| 第2章 流体动力学的应用 | 第16-21页 |
| 2.1 CFD(Computational Fluid Dynamics)简介 | 第16-17页 |
| 2.1.1 CFD的基本原理 | 第16页 |
| 2.1.2 FLUENT简介 | 第16-17页 |
| 2.1.3 FLUENT的基本结构 | 第17页 |
| 2.2 采用的数学模型 | 第17-21页 |
| 2.2.1 湍流模型 | 第17-19页 |
| 2.2.2 滑移网格模型 | 第19页 |
| 2.2.3 多相流模型 | 第19-21页 |
| 第3章 DE氧化沟内部流场的模拟 | 第21-35页 |
| 3.1 模型所依托的工程实体概述 | 第21-22页 |
| 3.2 DE氧化沟模型的建立 | 第22-28页 |
| 3.2.1 DE氧化沟几何模型的建立 | 第23-24页 |
| 3.2.2 曝气和混合推动设备的模拟实现 | 第24-26页 |
| 3.2.3 边界条件的定义与求解方法的设置 | 第26-28页 |
| 3.3 数值模拟结果与分析 | 第28-33页 |
| 3.3.1 氧化沟内不同深度的流速分布 | 第28-31页 |
| 3.3.2 氧化沟内X=-465cm截面上流速分布 | 第31-32页 |
| 3.3.3 氧化沟内与水流速度方向垂直截面上流速分布 | 第32-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-35页 |
| 第4章 氧化沟内不同水下推流器对比 | 第35-46页 |
| 4.1 氧化沟内两种常用的水下推流器 | 第35页 |
| 4.2 搅拌池模型的建立 | 第35-38页 |
| 4.2.1 几何模型 | 第35-36页 |
| 4.2.2 边界条件的定义与求解方法的设置 | 第36-38页 |
| 4.3 两种水下推流器流场对比分析 | 第38-44页 |
| 4.3.1 流线图对比分析 | 第38页 |
| 4.3.2 速度场对比分析 | 第38-43页 |
| 4.3.3 浓度场分布结果与分析 | 第43-44页 |
| 4.4 两种水下推流器的功率对比 | 第44页 |
| 4.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 第5章 DE氧化沟内结构形式对流速分布的影响 | 第46-64页 |
| 5.1 不设置导流墙氧化沟内部流速分布 | 第46-49页 |
| 5.1.1 不设置导流墙的氧化沟模型 | 第46页 |
| 5.1.2 模拟结果分析 | 第46-49页 |
| 5.2 导流墙不同布置形式对氧化沟流场的影响 | 第49-59页 |
| 5.2.1 导流墙的布置形式 | 第49页 |
| 5.2.2 导流墙不偏置的探讨 | 第49-51页 |
| 5.2.3 导流墙圆心设置在水流上游的探讨 | 第51-55页 |
| 5.2.4 导流墙圆心设置在水流下游的探讨 | 第55-59页 |
| 5.3 导流墙形式的改进 | 第59-62页 |
| 5.3.1 导流墙向下游方向延伸 3m | 第59-60页 |
| 5.3.2 设置两道导流墙 | 第60-62页 |
| 5.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第6章 结论和展望 | 第64-66页 |
| 6.1 结论 | 第64-65页 |
| 6.2 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第70页 |
