摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
第1章 绪论 | 第13-20页 |
1.1 研究背景及意义 | 第13-16页 |
1.2 国内外研究现状 | 第16-18页 |
1.2.1 国外研究现状 | 第16-17页 |
1.2.2 国内研究现状 | 第17-18页 |
1.3 主要研究内容 | 第18-20页 |
第2章 薄膜的制备 | 第20-27页 |
2.1 实验仪器 | 第20-22页 |
2.2 实验材料 | 第22-23页 |
2.2.1 靶材 | 第22页 |
2.2.2 基片 | 第22-23页 |
2.2.3 实验试剂 | 第23页 |
2.3 实验步骤 | 第23-25页 |
2.3.1 基片清洗 | 第23-24页 |
2.3.2 磁控溅射仪操作步骤 | 第24-25页 |
2.4 薄膜沉积速率计算 | 第25页 |
2.5 本章小结 | 第25-27页 |
第3章 Al/CuO含能桥膜的表征 | 第27-42页 |
3.1 薄膜沉积密度的计算 | 第27页 |
3.2 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第27-28页 |
3.3 电子能谱分析(EDS) | 第28-32页 |
3.4 化学反应性分析 | 第32-40页 |
3.4.1 热分析试样的制备 | 第32-35页 |
3.4.2 Al/CuO化学反应DSC曲线分析 | 第35-37页 |
3.4.3 Al过量摩尔百分比对含能薄膜放热量的影响 | 第37-40页 |
3.4.4 单层膜厚对含能薄膜反应性影响 | 第40页 |
3.5 本章小结 | 第40-42页 |
第4章 Al/CuO含能桥发火特性研究 | 第42-55页 |
4.1 点火起爆装置设计 | 第42-44页 |
4.1.1 点火起爆装置原理 | 第42-43页 |
4.1.2 点火起爆装置主要参数 | 第43-44页 |
4.2 含能桥的制备 | 第44-47页 |
4.2.1 掩膜板设计 | 第44-46页 |
4.2.2 制备含能桥 | 第46-47页 |
4.3 反应区面积对含能桥最小发火电压的影响 | 第47页 |
4.4 Al/CuO摩尔比对含能桥最小发火电压的影响 | 第47-48页 |
4.5 发火电压对Al/CuO含能桥伏安特性曲线的影响 | 第48-51页 |
4.6 发火电压对含能桥反应区破损的影响 | 第51-53页 |
4.7 Al/CuO含能桥安全性测试 | 第53页 |
4.8 本章小结 | 第53-55页 |
第5章 Al/CuO含能桥点火能力研究 | 第55-74页 |
5.1 基片 | 第55-58页 |
5.1.1 基片的要求和选择 | 第55页 |
5.1.2 基片的设计和加工 | 第55-57页 |
5.1.3 基片的预处理 | 第57-58页 |
5.2 背板 | 第58-60页 |
5.3 制备集成的Al/CuO含能桥 | 第60-62页 |
5.3.1 掩膜与基片电路板装配 | 第60页 |
5.3.2 溅射沉积Al/CuO含能桥 | 第60-61页 |
5.3.3 含能桥电阻测试 | 第61-62页 |
5.4 B/KNO_3点火药的点火阈值测试 | 第62-63页 |
5.5 钝感点火药质量对含能桥点火能力的影响 | 第63-64页 |
5.6 钝感点火药密度对含能桥点火能力的影响 | 第64-66页 |
5.7 Al/CuO摩尔比对含能桥点火能力的影响 | 第66-69页 |
5.8 反应区长宽比对含能桥点火能力的影响 | 第69-70页 |
5.9 多桥点火对含能桥膜点火能力的影响 | 第70-73页 |
5.10 本章小结 | 第73-74页 |
结论 | 第74-77页 |
参考文献 | 第77-81页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第81-82页 |
致谢 | 第82-83页 |