| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 激光抛光技术简介 | 第9-10页 |
| 1.1.1 传统抛光技术介绍 | 第9页 |
| 1.1.2 激光抛光技术 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外文献综述 | 第10-15页 |
| 1.2.1 国外激光抛光技术的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第13-15页 |
| 1.3 本研究课题的主要研究内容 | 第15-17页 |
| 1.3.1 本文研究的目的、意义 | 第15页 |
| 1.3.2 本文主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 激光抛光基本理论与抛光去除机制 | 第17-27页 |
| 2.1 激光抛光理论 | 第17-23页 |
| 2.1.1 激光抛光的物理机制 | 第17页 |
| 2.1.2 激光抛光的基本理论 | 第17-21页 |
| 2.1.3 影响激光抛光过程的主要因素 | 第21-23页 |
| 2.2 关于SiC材料和YBCO材料的介绍 | 第23-25页 |
| 2.2.1 碳化硅SiC | 第23-24页 |
| 2.2.2 钇钡铜氧YBCO | 第24-25页 |
| 2.3 材料的去除机制 | 第25-27页 |
| 第3章 KrF准分子激光抛光 6-H SiC机理与工艺实验研究 | 第27-41页 |
| 3.1 实验设备与仪器 | 第27-28页 |
| 3.2 实验装置安排 | 第28-30页 |
| 3.3 激光能量密度对于抛光效果的影响 | 第30-35页 |
| 3.4 激光脉冲光斑重叠率对抛光效果的影响 | 第35-36页 |
| 3.5 样品材料分析与加工机理研究 | 第36-39页 |
| 3.5.1 扫描电子显微镜分析（SEM） | 第36-37页 |
| 3.5.2 拉曼光谱分析（Raman Spetroscopy） | 第37-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 KrF准分子激光抛光YBCO超导薄膜机理与工艺实验研究 | 第41-49页 |
| 4.1 实验仪器与装置 | 第41-42页 |
| 4.2 实验数据 | 第42-46页 |
| 4.3 材料成分与去除机理分析 | 第46-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读工程硕士学位期间完成的学术成果 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
