物理气相沉积法制备全固态薄膜锂离子电池正极材料LiCoO2
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| ·薄膜锂离子电池 | 第9-11页 |
| ·锂离子电池正极材料 | 第11-17页 |
| ·钴酸锂 | 第12-13页 |
| ·镍酸锂 | 第13-14页 |
| ·锰酸锂 | 第14页 |
| ·钴酸锂的微结构 | 第14-17页 |
| ·脉冲激光沉积法制备钴酸锂薄膜研究进展 | 第17-24页 |
| ·激光能量 | 第17-18页 |
| ·基片温度 | 第18-20页 |
| ·氧分压 | 第20-22页 |
| ·靶材组分 | 第22-24页 |
| ·选题的目的和意义 | 第24-26页 |
| 第二章 实验设备及原理 | 第26-38页 |
| ·钴酸锂薄膜的制备 | 第26-32页 |
| ·脉冲激光沉积设备和工作原理简介 | 第26-29页 |
| ·射频磁控溅射沉积系统设备和工作原理简介 | 第29-32页 |
| ·钴酸锂薄膜结构表征 | 第32-35页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第32-33页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第33-35页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第35页 |
| ·钴酸锂薄膜性能表征 | 第35-38页 |
| ·电池结构 | 第35-36页 |
| ·恒流充放电测试 | 第36页 |
| ·循环伏安测试 | 第36-38页 |
| 第三章 脉冲激光沉积法制备钴酸锂薄膜 | 第38-66页 |
| ·制备靶材 | 第38-44页 |
| ·单一靶材的制备 | 第38-41页 |
| ·掺杂氧化锂靶材的制备 | 第41-44页 |
| ·制备薄膜 | 第44-62页 |
| ·激光强度对薄膜结构及电化学性能的影响 | 第44-49页 |
| ·基片温度对薄膜结构的影响 | 第49-52页 |
| ·氧分压对薄膜结构及电化学性能的影响 | 第52-55页 |
| ·基片对薄膜结构的影响 | 第55-59页 |
| ·沉积后退火处理对薄膜结构的影响 | 第59-60页 |
| ·靶基距对于薄膜结构的影响 | 第60-62页 |
| ·薄膜结构对薄膜电性能的影响 | 第62-64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 第四章 磁控溅射沉积法制备钴酸锂薄膜 | 第66-76页 |
| ·制备靶材 | 第66-68页 |
| ·制备薄膜 | 第68-74页 |
| ·射频源入射功率对薄膜结构的影响 | 第68-70页 |
| ·靶基距与离子源对于成膜的影响 | 第70-72页 |
| ·基片对薄膜结构的影响 | 第72-73页 |
| ·沉积时间对薄膜结构的影响 | 第73-74页 |
| ·氩气氧气比对薄膜结构的影响 | 第74页 |
| ·小结 | 第74-76页 |
| 第五章 钴酸锂薄膜的晶体结构与电化学性能之关系 | 第76-81页 |
| 第六章 结论与创新点 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第88-89页 |
