电磁脉冲作用下复杂金属腔体和天线的时域响应特性研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 引言 | 第11-16页 |
| 1.1 研究工作的背景和意义 | 第11-13页 |
| 1.2 研究现状 | 第13-15页 |
| 1.3 研究内容和贡献 | 第15-16页 |
| 第二章 模匹配法在金属腔体屏蔽效能预估中的应用 | 第16-35页 |
| 2.1 屏蔽腔的几何结构 | 第16-17页 |
| 2.2 模匹配公式的推导 | 第17-26页 |
| 2.2.1 孔缝上的等效磁流源 | 第17-18页 |
| 2.2.2 腔体外部的散射电磁场 | 第18-20页 |
| 2.2.3 孔缝等效磁流产生的内部场 | 第20-22页 |
| 2.2.4 孔缝上的连续边界条件 | 第22-23页 |
| 2.2.5 系统线性矩阵方程 | 第23-26页 |
| 2.3 数值结果和讨论 | 第26-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 时域积分方程算法的应用 | 第35-49页 |
| 3.1 显式时间步进递推算法 | 第35-38页 |
| 3.2 隐式时间步进递推算法 | 第38-45页 |
| 3.2.1 递推系统的稳定性分析 | 第38-39页 |
| 3.2.2 隐式时间步进递推算法的推导 | 第39-41页 |
| 3.2.3 时间基函数的选择 | 第41-45页 |
| 3.3 阶数步进递推算法 | 第45-46页 |
| 3.5 数值结果和讨论 | 第46-48页 |
| 3.6 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 电磁脉冲辐照下天线表面感应电流的瞬态响应 | 第49-76页 |
| 4.1 实际问题描述 | 第49-50页 |
| 4.2 圆柱形线天线的时域积分方程 | 第50-63页 |
| 4.2.1 时域积分方程的推导 | 第50-52页 |
| 4.2.2 柱坐标系下的完全积分核 | 第52-53页 |
| 4.2.3 作为时间基函数的拉盖尔多项式 | 第53-54页 |
| 4.2.4 阶数步进递推算法流程图 | 第54-56页 |
| 4.2.5 数值结果和讨论 | 第56-63页 |
| 4.3 线面结合的复杂天线结构 | 第63-74页 |
| 4.3.1 空间基函数定义 | 第63-67页 |
| 4.3.2 线面混合金属散射体的时域积分方程 | 第67-69页 |
| 4.3.3 数值结果和讨论 | 第69-74页 |
| 4.4 本章小结 | 第74-76页 |
| 第五章 介质金属组合目标的瞬态散射特性研究 | 第76-90页 |
| 5.1 介质体的时域散射特性分析 | 第76-78页 |
| 5.2 介质和金属混合体的时域散射特性 | 第78-84页 |
| 5.2.1 金属与介质散射体分离情形 | 第78-81页 |
| 5.2.2 金属外层涂覆介质情形 | 第81-83页 |
| 5.2.3 金属与介质相接触情形 | 第83-84页 |
| 5.3 数值结果和讨论 | 第84-89页 |
| 5.4 本章小结 | 第89-90页 |
| 第六章 总结与展望 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-97页 |
| 附录A | 第97-99页 |
| 附录B | 第99-102页 |
| 致谢 | 第102-103页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第103-105页 |
